回転性スプッターマグネトロン

モリブデンのマグネトロン ターゲットのための回転式放出させるターゲット 1. モリブデンのマグネトロン ターゲットのための回転式放出させるターゲットの記述: モリブデンの回転式放出させるターゲットは通常操作の間に低速で回る、中静止した磁石との円柱形になされるマグネトロン ターゲットで.........

ステンレス鋼の管ターゲット継ぎ目が無い管の鋼鉄304 155OD*125ID*888L真空メッキターゲット 項目名前 ステンレス鋼の管ターゲット サイズ φ155*φ125*888 等級 304 包装 木の場合の真空パック 場所の港 西安の港、北京の港、上海の港、広州の港、シンセンの港 コーティング ......

SiCの燃料電池モジュールPECVDの放出させるシステム/水素の燃料電池のマグネトロンの放出させるコーティング装置 SiCの燃料電池モジュールの放出させるシステム仕様書 モデル RTSP1213-DC 材料.........

ハイエンドのステンレス鋼時計マグネトロン スパッタリング装置 マグネトロン スパッタリング装置の主要部品:真空チャンバー、真空ポンプ、電気キャビネット。 マグネトロン スパッタリング装置付属装置:エアコンプレッサー、ウォータータワー、ウォーターポンプ、オーブン。 &.........

ジルコニウム ターゲット マグネトロンの放出させるターゲット直径140mm/D60mm /57mm PVDのコーティングのsystermのためのジルコニウム ターゲット、コーティング ターゲット、複数のアーク ターゲット、放出させるターゲット、真空メッキターゲット。 放出させるターゲットの不運.........

99.995%純度チタンスプッターターゲット PVDコーティングローータリーチューブターゲット タイタンの標的薄膜材料の調製に使用され,マグネトロンスプッター技術で広く使用されています. 集積回路,装飾コーティング産業,フラットディスプレイなどが必要ですしたがって,チタンターゲットの質は非常に重要.......

チタニウム ターゲット純粋な金属の放出させるターゲット高い純度の金属のマグネトロンは高い純度に塗るPVDのためのターゲットを放出させる チタニウム ターゲット 高純度および高密度放出させるターゲットは下記のものを含んでいる:放出させるターゲット（純度:99.9%-99.999%） チタニウム.........

ペット フィルムに塗るために使用されるMetallizerを放出させる多機能のマグネトロン 製品の説明 放出させるマグネトロンは真空システム、巻くシステム、マグネトロン ターゲット放出させるシステム、制御システム、等で構成され、2 μmに300 μmの厚さの薄膜で放出させる銅、鉛、ア.........

マグネトロンの放出させるガラス コーティングの生産ライン マグネトロンの放出させる塗装システムは建築反射ガラス、かミラーおよび装飾の多彩なガラスでも加えることができる。うまく設計された大きい区域の放出させる陰極は最高のガラスでコーティングを作ることができる。2540×3660mmのサイズ。最大限に活......

脈打ったレーザーの沈殿（PLD）システムおよびDCまたはRFのマグネトロンの放出させるシステムのためのターゲットを放出させなさい 私達は広い範囲をの放出させる金属、合金、希土類、単結晶、混合物を含むターゲットを提供し、さまざまな陶磁器ターゲットは、酸化物のような、窒化物、炭化物、ホウ化物、硫化、セレ......

高精度マグネットロンスプッターフィルム 製品説明: マグネティック・スプッティング・シリーズ (Magnetic Sputtering Series) は,研究開発プロジェクトのために高品質の薄膜を必要とする研究者や科学者の理想的な選択です.磁気記録メディアなどの様々なアプリケーションで薄膜堆積........

シルバースプッターターゲットのスプッターターゲットのチタンディスクを医療用途での高純度スプッターに 物理蒸気堆積 (PVD) プロセスにおいて,チタン噴射標的は,様々な医療用薄膜の製造において極めて重要です.この薄膜は,パフォーマンスを向上させるために決定的です耐久性,およびインプラント,ス.........

99.95% PVDのコーティングのための純粋なモリブデンの放出させるターゲット モリブデンの放出させるターゲットの導入 2種類のモリブデンの放出させるターゲットがある:モリブデンの平面ターゲットおよびモリブデンの回転式ターゲット。 モリブデン ターゲットは伝導性ガラス、STN/T.........

タンタルのタングステンTaWの合金正方形ターゲット カスタム化の指定 準備プロセス:熱い地殻均衡押すこと、正常な温度の焼結、粉の金の処置、等目標資料の形態:平らなターゲット、複数のアーク ターゲット、ステップ ターゲット、特別型ターゲット 適用装備品:マグネトロンの放出させる装置、イオン放.........

4/1.5マグネトロン6kWのマイクロウェーブ炉の触媒リアクターLaborataryの回転式プラットホーム 製品の機能 HY-QS6016はマイクロウェーブを発生させるために1.5kWの4つのマグネトロンを採用し、操業馬小屋に高温の下でfuranceを保障します。 HY-QS60.........

主要な技術索引:1.最終的な真空:≤6.6X10 ³ Pa 2.の真空の獲得システムは分子ポンプを+機械30分の間ポンプ単位3.の連続的なポンプ、真空の程度です8x10 ³ Pa 4.円柱放出させるターゲットが独自に働かせると等しいかまたはそれ以下ことができる採用しますまたは同時に直径の5.基質......

油で潤滑されたローータリーバンの真空ポンプ (RH0020)) 製品説明 典型的な回転式真空ポンプは,ハウジング,ローター,放射的に動くシートから構成される.ドライランニングまたは潤滑型で提供される (後者はほとんどの産業用用途で最も一般的に使用される)ローターは通常,連続的に動いている唯一.........

陶磁器窒化ホウ素は高温抵抗および熱循環の抵抗による非常に熱いくま材料として特にうってつけである。 窒化ホウ素の陶磁器の版の適用 VGFまたはVB方法によって単一の半導体の水晶およびIII-Vの混合物を総合するのに使用される。 項目 単位 見掛密度 g/cm3 2.1.........