プラズマのCVD

GCWM-9050 50kW/915MHz CWのマグネトロン GGCK-50モールス式電信符号波のマグネトロンは33cm、fixed-frequency、全金属陶磁器の構造および直接熱純粋なタングステンの陰極、強力なマイクロウェーブ管である。water-cooled管を提供するために外側か.........

11×11 スクエアマイクロ波プラズマラボグロウンCVDダイヤモンドチップ シングルクリスタル 製品仕様 属性 値 カスタマイズされたサポー.........

CVD 炭化ケイ素 (SiC) リングは、高度なエッチング、堆積、プラズマ処理システム向けに設計された半導体グレードの耐プラズマ性コンポーネントです。このリングは、高純度の化学蒸着 (CVD) 炭化ケイ素技術を使用して製造されており、要求の厳しい半導体製造環境において、プラズマ浸食、腐食性プロセスガ......

1200℃血しょうは真空ポンプが付いているLPCVDの炉を高めました 理性的なLPCVDの紹介: PECVDシステムは従来のCVDの反作用の温度を減らすように設計されています。それはガスの反応をイオン化するために従来のCVDの前のRFの誘導装置を取付けました従って血しょうは発生します。血しょうの高い......

6mm*6mmの正方形の形の光学等級CVDの実験室によって育てられるダイヤモンドの版 CVDの実験室によって育てられるダイヤモンドは記述をめっきする 化学気相堆積（CVD）方法はある程度の入熱を通して原料としてカーボン ガスが分解するある特定の圧力の下でカーボン ガスの源（一般にメタ.........

Φ150,壁厚さ10mm,高純度電気溶融クォーツチューブ A fire-polished quartz tube for semiconductor PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) is an ultra-high-purity........

半導体装置の用途 CVD SiCコンポーネントは半導体フロントエンド機器で使用される主要な消費品および構造部品です.ドライエッチ,EPI,ディフュージョン,RTPプロセス 素晴らしい高純度,熱伝導性,プラズマ腐食耐性,高温安定性,低粒子の生成性,精密加工性CVD SiCコンポーネントは,要求の高........

単結晶CVDのダイヤモンド CVDのダイヤモンドの成長、マイクロウェーブ血しょうへの停止開始の研究のほぼ4十年が高めた後CVDのダイヤモンドの統合は90年代の商業統合方法として現れた。この方法の純度の成長率そして制御は単結晶のダイヤモンドにそれ自身を、支えがない良質、製造貸す。.........

半導体機器のための高度アルミナセラミックリング 高性能の製品を作っていますアルミナセラミックリング半導体プラズマ処理機器における重要な用途のために特別に設計された.高純度アルミナA998 (99.8%)要求の高いエッチとCVD室では プラズマ抵抗と信頼性が 優れています 製品概要 コラー エッ.........

グラファイトのボート Øの働き主義 PECVD:それは血しょうを局部的に形作るためにフィルム構成原子を含んでいるガスをイオン化するのにマイクロウェーブか無線周波数を使用する。血しょうに強い化学活動があり、反応し易い基質の望ましいフィルムを沈殿させるために。化学反応が低温で進むことを可能にす.........

FTTHシステムのための1x5枝タイプPLCのディバイダーの低い挿入損失 繊維光学PLCのディバイダーの記述 SeacentのPhotonicsによって進められる部品は高性能PLCのディバイダー モジュールの系列を導入します。モジュールは安定した光学特徴を提供するための血しょう化学気相堆積（P.........

1x4 PLC 光学分断カセット SC APC 平面波導光ファイバー光学分断カセット 基本情報: 1xNおよび2XN平面光波回路 (PLC) スプリッタは,プラズマ化学蒸気堆積 (P-CVD) 技術と,安定した光学特性を提供する特許製造プロセスに基づいています.1xNと2XN.........