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穴、非アニーリングのない1つの段階EIのラミネーションEI 57
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1900年に、Si4%を含んでいるSi Fe合金によい磁気特性があることをイギリスのHadfield （R.A. Hadfield）および最初に他は発見した。1903年に、ドイツおよび米国は引き続いて1.0%に4.5% Siを含んでいるつや出しのケイ素の鋼板を作り出した。1906年に、低炭素鋼鉄を取り替え、モーターおよび変圧器の中心を製造することを使用した。1934年に、米国Goss （N.P. Goss）は（110） [001]穀物を作るのに2つの冷間圧延方法を方向づけたSi3%を含んでいる冷間圧延されたケイ素の鋼板を使用した。1968年に、日本のTaguchiは等マンガンの硫化窒化アルミニウムの広範囲の抑制剤を使用し、作り出すのに大きい減少冷間圧延方法を（110） [001使用した]非常に磁気的に方向づけられたケイ素の鋼鉄。この材料の穀物のオリエンテーションはより正確、鉄の損失であり磁気特性は更に改良される。長年にわたって、ケイ素の鋼鉄の鉄の損失の価値の減少の図式的なカーブは図1.で示されている。
1949年に、米国は冷間圧延されて（110） [001]方向づけた電子産業のためのより少しにより0.1 mmの厚さの薄いケイ素の鋼鉄ストリップを作った。1957年に、ドイツ連邦共和国は（100） [001作った]立方体で高い磁気アスペクト レシオがあるが、複雑なプロセスが原因で、公式にまだ作り出されていないケイ素の鋼板を方向づけた。次の図は（110）の穀物の整理の図式的な図表である[001]および（100） [001]ケイ素の鋼板を方向づけた。ケイ素の6.5%を含んでいるSi Fe合金の磁気ひずみは約ゼロである、磁気透磁率は高い、鉄の損失は低い、変圧器はである無雑音作ったが、処理の難しさのために広く利用されていない。70年代では6.5Si Feに微晶質の薄いストリップを作るのに、液体の急速な冷却の技術が使用されより薄い方向づけられたケイ素の鋼板および（100つの）表面の質（非結晶オリエンテーション）のケイ素の鋼板の新しい変化は開発された。
中国はつや出しの低ケイ素のケイ素の鋼板（1953年にSi1 | 2%）を作り出し始めた;始められた作成のつや出しの高ケイ素のケイ素の鋼板（1955年にSi3.0 | 4.5%）;そして1962年に冷間圧延された方向づけられた薄いケイ素の鋼鉄ストリップを作り出し始めた。70年代では、冷間圧延された方向づけられたケイ素の鋼鉄ストリップの生産は始まった。
| 項目コード | サイズ | Q | B | C | D | E | F | G | i | K | N | d | |
| HT518 | EI-54-4H-GAP-XX | 0.5、3.0 | 54 | 45 | 18 | 9 | 9 | 27 | 36 | 45 | 9 | 9 | 3.5 |
| HT519 | EI-85.8-4HGAP-XX | 0.99 | 85.8 | 71.5 | 28.6 | 14.3 | 14.3 | 42.9 | 57.2 | 71.5 | 14.3 | 14.3 | 5 |
| HT520 | EI-96-4HGAP-XX | 0.9、1.5;2.54;2.7、3.0、5.0 | 96 | 80 | 32 | 16 | 16 | 48 | 64 | 80 | 16 | 16 | 6 |
| HT521 | EI-105-4HGAP-XX | 2.0、2.3、2.5 | 105 | 87.5 | 35 | 17.5 | 17.5 | 52.5 | 70 | 87.5 | 17.5 | 17.5 | 6 |
| HT522 | EI114-4HGAP-XX | 1.8、2.6、3.3、3.5、 | 114 | 95 | 38 | 19 | 19 | 57 | 76 | 95 | 19 | 19 | 7 |
| HT523 | EI-120-4HGAP-XX | 4.0 | 120 | 100 | 40 | 20 | 20 | 60 | 80 | 100 | 20 | 20 | 7 |
| HT524 | EI-132-4HGAP-XX | 3.0 | 132 | 110 | 44 | 22 | 22 | 66 | 88 | 110 | 22 | 22 | 7 |
| HT525 | EI-192-4HGAP-XX | 1.0、3.0 | 192 | 160 | 64 | 32 | 32 | 96 | 128 | 160 | 32 | 32 | 10 |