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単結晶のモノクリスタルの半導体の基質のインジウムのヒ化物のInAsの基質

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単結晶のモノクリスタルの半導体の基質のインジウムのヒ化物のInAsの基質

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型式番号 :インジウムのヒ化物(InAs)
原産地 :中国
最低順序量 :3個
支払の言葉 :T/T、ウェスタン・ユニオン
供給の能力 :500pcs
受渡し時間 :2-4weeks
包装の細部 :1000等級のクリーン ルームの単一のウエファーのパッケージ
材料 :インジウムのヒ化物(InAs)のモノクリスタル水晶
成長方法 :vFG
サイズ :2-4INCH
厚さ :300-800um
適用する :III-Vの直接bandgapの半導体材料
表面 :ssp/dsp
パッケージ :単一のウエファー箱
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2-4インチガリウムアンチモニード GaSb基板 半導体用単結晶単結晶
インディアムアルセニード INAs 基板 シングルクリスタル モノクリスタル 半導体基板
シングルクリスタル半導体基板 インディウムアルセニード INAs ウェーファー
 
適用する
インディアムアルセニード (InAs) 単結晶半導体基板は,電子機器および光電子機器分野で広く使用されているユニークな特性を持つ材料である.以下のいくつかの可能な用途:

1.高性能 赤外線検出器

狭い帯域の隙間があるため,InAs基体は,特に中赤外線および長波長赤外線範囲で,高性能赤外線検出器の製造に理想的です.夜間視力などの応用には不可欠です熱イメージングや環境モニタリング

2.量子ドット技術

InAsは量子点レーザー,量子コンピューティングシステム,高効率の太陽電池などの高度な光電子機器の開発に不可欠な量子点の製造に使用されています.優れた電子移動性と量子封じ込め効果により 次世代の半導体装置に最適です.

3.高速電子機器

InAs基板は優れた電子移動性を有し,高速電子機器に適しています.電気通信やレーダーシステムで使用される高周波トランジスタ (HEMT) や高速集積回路など.

4.光電子機器

InAsは,直接帯域隙間と高い電子移動性により,レーザーや光検出器などの光電子装置の製造に使用される人気のある材料です.これらの装置は,光ファイバー通信におけるアプリケーションにとって極めて重要です医学画像検査やスペクトロスコピーです

5.熱電気装置

InAsの優れた熱電性能により,熱電発電機や冷却装置の 有望な候補となります温度グラデーションを電気エネルギーに変換し,電子機器の冷却用途に使用する.
InAs基板は赤外線検出から量子コンピューティング,高速電子機器まで現代の半導体および光電子アプリケーションで不可欠なものとする.
 
基質として
 

製品名インディウムアルセニド (InAs) 結晶
製品仕様

栽培方法:CZ

結晶の向き: <100>

伝導型:N型

ドーピングタイプ:ドーピングされていない

キャリア濃度: 2 ~ 5E16 / cm 3
移動性:> 18500cm2 / VS
共通仕様 寸法:dia4"×0.45 1sp

標準パッケージ1000のクリーンルーム,100のクリーンバッグやシングルボックス

 

製品仕様として
 
成長
LEC
直径
2/2インチ
厚さ
500から625まで
オリエンテーション
<100> / <111> / <110> その他
オリエンテーション外
2°から10°
表面
SSP/DSP
フラットオプション
エイジまたはセミ. STD.
TTV
<=10m
EPD
<= 15000cm-2
グレード
エピ 磨き品/機械品
パッケージ
パッケージ

 

電気およびドーピング仕様
ドーパント利用可能
S / Zn / ドーピングされていない
伝導性の種類
N / P
集中度
1E17 - 5E18cm-3
モビリティ
100 ~ 25000cm2 / v.s

 
InAsSb/In-AsPSb,InNAsSbおよび他のヘテロジョンクション材料は,InAs単結晶を基質として栽培することができる.波長が2〜14μmの赤外線発光装置を製造することができる.AlGaSb超格子構造材料は,InAs単結晶基板を用いて表軸的に成長することもできる. 中赤外量子カスケードレーザー.これらの赤外線装置は,ガスモニタリングの分野で良い応用見通しを持っていますさらに,InAs単結は高い電子移動性を有し,ホール装置の製造に理想的な材料である.
 
特徴:
1水晶は液体密封式直線画技術 (LEC) で成長し,成熟した技術と安定した電気性能があります.
2精密な方向付けのためにX線方向儀を使用すると,結晶の方向付け偏差はわずか ±0.5°
3表面の粗さ <0.5nm
4"開いた箱"の要求を満たすため
5製品加工の特殊仕様
 
単結晶のモノクリスタルの半導体の基質のインジウムのヒ化物のInAsの基質
 
 

結晶ドープタイプ

 
イオンキャリア濃度
cm-3

移動性 (cm2/V.s)MPD ((cm-2)サイズ
INAアンドープN5*101632*104<5*104

Φ2′′×0.5mm
Φ3′′×0.5mm

INASnN(5-20) *1017>2000年<5*104

Φ2′′×0.5mm
Φ3′′×0.5mm

INAZnP(1-20) *1017100〜300<5*104

Φ2′′×0.5mm
Φ3′′×0.5mm

INASN(1-10) *1017>2000年<5*104

Φ2′′×0.5mm
Φ3′′×0.5mm

サイズ (mm)ダイヤル50.8×0.5mm,10×10×0.5mm,10×5×0.5mmはカスタマイズすることができます
アラ表面荒さ (Ra):<=5A
ポリス片面または双面に磨いたもの
パッケージ清掃室で100級の清掃用プラスチック袋

 
単結晶のモノクリスタルの半導体の基質のインジウムのヒ化物のInAsの基質
単結晶のモノクリスタルの半導体の基質のインジウムのヒ化物のInAsの基質

 
---FAQ

Q: 取引会社ですか? それとも製造会社ですか?

A: zmkjは取引会社ですが,サファイアメーカーがあります
幅広い用途の半導体材料のウエフルのサプライヤーとして

Q: 配達時間はどれくらいですか?

A: 通常は,商品が在庫である場合,それは5〜10日です. または,商品が在庫でない場合,それは15〜20日です.
ストックで,それは数量によってあります.

Q: サンプルを用意していますか?無料ですか?それとも追加ですか?

A: はい,私たちは無料の料金でサンプルを提供することができますが,貨物料を払いません.

Q: あなたの支払い条件は?

A: 支払いは<=1000USD,100%事前.支払いは>=1000USD,
50%T/T 送料前残金

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