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マグネトロンスプッタリングは,タンタル,チタン,ウルフスタンなどの耐火性金属を堆積するために広く使用されています,ナイオビウム,非常に高温の堆積を必要とする金や銀は,溶融点が低い銅,アルミニウム,ニッケル,クロムなどの金属の堆積にも使用されます.
タンタルは電子機器で最もよく使用されています産業侵食に強いため,保護用コーティングとして使います.
スプッターされたタンタル薄膜の用途:
1フィルムが反応的に噴射され,抵抗の耐久性と温度係数を制御できるので,マイクロ電子産業
5半導体産業,マイクロ電子チップ
技術 的 利点
ロイヤル・テクノロジーのスタンダード化されたタンタルス発射堆積システム: RTSP1000
| 主な構成 | |
| モデル | RTSP1200 |
| テクノロジー |
パルス式DC磁気電子噴射 カソド弧塗装 (選定,塗装方法により決定) イオンビーム源 |
| 部屋の材料 | ステンレス鋼 (S304) |
| 部屋の大きさ | Φ1200*1300mm (H) |
| 部屋のタイプ | D形,円筒状の部屋 |
| ローテーション・ラック&ジグシステム | 衛星運転または中央運転システム |
| 電力供給 |
DCスプッター電源: 2~4セット イオン源: 1セット |
| 申告資料 | タ,チ/Cr/チアル,アウ,アグ,キューなど |
| 預金源 | 平面スプッティングカソード + 円弧カソード |
| コントロール | PLC (プログラム可能な論理コントローラー) + IPC (手動+自動+半自動操作モデル) |
| パンプシステム | ローータリーバーンポンプ:SV300B 1セット (レイボルド) |
| ルーツポンプ: WAU1001 1セット (レイボルド) | |
| 保持ポンプ:D60C 1セット (レイボルド) | |
| 磁気懸垂分子ポンプ: MAG2200 2 sest (レイボルド) |
|
| ガス質量流量制御装置 | 2つのチャンネル:ArとN2 |
| バキューム・メージャー | インフィコンかレイボルド |
| 安全システム | 操作員や装備者を守るための多くの安全鍵 |
| 暖房 | 暖房 20KW 最大温度は 450°C |
| 冷却する | 工業用冷却機 (冷水) |
| パワーマックス | 100KW (約) |
| 平均的な電力消費量 | 45 KW (約) |
| 総重量 | T (約) |
| 足跡 | (L*W*H) 4000*4000*3600MM |
| 電気電力 |
AC 380V/3相/50HZ / 5ライン |
詳細のアプリケーションと仕様については,私達に連絡してください.
