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8 年
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CsI950 高真空沉積システム は,非常に高真空環境におけるスチンチレーションスクリーン上でCsIとTIIの金属化のためにのみ設計されています.厚さ200~600μmのCSIシンチラータは,厚さと明るさの性能が均一である:
"超高空間解像度画像"
鋭い画像を出すための迅速な応答
端から端までの画像領域をクラスでリードする.
光学吸収層または反射層.
患者さんのX線用量は低かった
適用された基板:TFTガラス,光ファイバープレート,アモルフ炭素プレート,アルミニウムプレート
適用:セキュリティチェックと検査,高エネルギー物理学教育,核放射線検出,医療画像:胸部検査,乳房検査,歯科内口腔検査,パノラマ検査
技術 的 利点
ロイヤル・テクノロジーは2つのモデルを用意しています:CSI950とCSI950A+
モデルCSI950A+は第1世代CSI950に基づいて更新されています. その利点:
1効率性
-CsI-950A+モデルは,第1世代CsI-950モデルに基づいた2回転ラック構造です.
-最大容量500×400mmの基板を2倍にする
2. 繰り返し・再現可能性
- 高精度なパラメータ制御システムを通して
- 自動化プロセス制御ソフトウェアとプログラム
- ユーザーフレンドリーな操作です
3信頼性
-24/7日連続運転
- インフィコンフィルム厚さコントローラ
温度制御精度: ± 1 °C,多段階設定,自動温度データ記録と制御
- 高度な精度と安定性のために,サーボモーターを装備した回転ラック.
4安全性
-高真空ポンプ:磁気懸垂分子ポンプ,窒素ガスを吹く装置で,危険物質が空気中に露出するのを避ける.
- すべての電極は安全保護袖で装備されています.
テクニカルパラメータ
| 記述 | CsI-950 |
CsI-950A+
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堆積室 (mm)
|
φ950 x H1350 |
φ950 x H1350
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| ローティング・ラック | 1 | 2 |
| 蒸発源 | 2 |
2
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| 加熱方法 |
ヨード・ウォルフレムランプ 最大 1800°C |
ヨード・ウォルフレムランプ 最大 1800°C |
| 極限真空圧 (Pa) | 8.0×10−5Pa | 8.0×10−5Pa |
| 磁気懸垂分子ポンプ | 1 x 3400L/S |
1 x 3400L/S
|
| 根ポンプ | 1 x 490m3/h |
1 x 490m3/h
|
| ロータリーバーンポンプ | 1 x 300m3/h |
1 x 300m3/h
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| デポジションコントローラ | クォーツ制御 x 1 |
クォーツ制御 x 1
|
| 電力消費量 (KW) |
最大 約62 平均約32 |
最大 約 65 平均 約 35 |
インサイト
場所: 中国