不均衡および閉場磁気電子プロセスは,平面磁気電子のすべての利点を有する.追加の利点とデメリットとは:
- 濃厚で粘着性のあるフィルムを生成する追加のイオン爆撃
- イオンアシストと基板の清掃が可能
- トリボロジカル,耐磨性,耐腐蝕性のあるフィルム
- 多層,超格子,ナノラミナント,ナノ複合材料のフィルムに変形可能
- 材料の使用が減る
- より複雑なカソード構成/費用
不均衡で閉ざされた磁石電子噴射は,磁石電子噴射プロセスによって達成可能な性質に革命をもたらしました. 改善された薄膜トリボロジックにより,この技術が使われていたため,腐食耐性と光学特性次は回転型や円筒形マグネトロンのプロセスと結果の薄膜アプリケーションに移ります
--- アウト・アーティカルP E T E R M A R I N について
ロイヤル技術では,特に稀有で高価な金属のスプートリング (Au Gold,Ta Tantalum,Ag Silver metal film deposition) のため,高出力,高ターゲット利用性のあるスプートリングカソードを開発した.電子部品などのいくつかの産業にサービスを提供しています厚いフィルム均一性,複数の層の堆積を必要とする医療機器の部品.
RTSP1000機械は,ロイヤルテクノロジーによって開発された標準化機械である. 切削/形作りのツール,模具,医療機器,電子部品,自動車産業に広く適用されている.
線形イオン源のプラズマ清掃と補助堆積:ここをクリックビデオを見るために
ロイヤル・テクノロジーは 完全なコーティング・ソリューションを 提供できることを光栄に思います
