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半導体デバイスのための低負荷の消費の膜窒素の発電機
膜窒素の発電機の紹介
窒素の膜分離の技術の中心で重合体の膜材料はそれある
別のいつ適用圧力の道を最小にしている間1つのガスの急速な道を可能にしなさい
膜を渡る勾配。 膜材料は空繊維に高く提供するために形作られる
高いbolometricガスの加工率のための表面積。
窒素の重合体の膜のために、各ガスの浸透の率は容解性によって定められる
の分子自由な容積を通る拡散の窒素の膜材料および率
窒素の膜の壁。 窒素の膜の高い容解性を表わすガス、およびガスそれ
分子サイズで小さくであって下さい、よりより大きい、より少なく溶けるガスに速く浸透しなさい。
膜窒素の発電機の塗布:
速いガスおよび遅いガス
「従って速い」ガス窒素の膜の壁に「は遅い」ガスより、もっと容易に浸透する
2つの流れに元のガスの混合物を分けること。 望ましい流れの純度は調節することができる
作動条件の変更によって。
窒素の膜の機能は「選択率」によって2つのガスを分ける、比率定められる
2つのガスの透磁率の。 より高い選択率、より有効分離およびより少なく
エネルギーは必要システムを動かすためにである。
膜窒素の発電機の指定:
| いいえ | モデル | 容量（Nm3/h） | 純度 | 力（KW） | 全面的なサイズ（mm） |
| 1 2 3 4 | MN-3-39 MN-5-29 MN-5-295 MN-8-295 | 3 5 5 8 | 99.9% 99.5% 99% 95% |
0.5 |
1800*1400*1500 |
| 5 6 7 8 | MN-5-49 MN-8-39 MN-12-295 MN-15-29 | 5 8 12 15 | 99.99% 99.9% 99.5% 99% |
0.5 |
1800*1400*1800 |
| 9 10 11 12 | MN-10-49 MN-15-39 MN-25-295 MN-30-39 | 10 15 25 30 | 99.99% 99.9% 99.5% 99% |
0.5 |
2000*1700*2250 |
| 13 14 15 16 | MN-15-49 MN-22-39 MN-35-295 MN-45-29 | 15 22 35 45 | 99.99% 99.9% 99.5% 99% |
0.5 | 2100*1800*2200 |
| 17 18 19 20 | MN-20-49 MN-30-39 MN-50-295 MN-60-29 | 20 30 50 60 | 99.99% 99.9% 99.5% 99% |
0.5 | 2200*1800*2200 |
| 21 22 23 24 | MN-30-49 MN-45-39 MN-75-295 MN-88-29 | 30 45 75 88 | 99.99% 99.9% 99.5% 99% |
0.5 | 2400*1900*2200 |
| … | … | … | … | … | … |
| 注:ガス システムCo.、株式会社以来連絡するかまたは私達に電子メールを直接送ること自由なより多くのニュース | |||||
技術的な変数:
N2の高い純度および純度は95%から99.9%の間でのに応じて調整できる
ユーザーのニーズ;
。高性能、圧縮空気の低負荷の消費;
。標準モデル、窒素の発電機は付加的な窒素の出力のための平行であることができる;
。低い露点、溶接の質を保障するプロダクト≤ -40の°Cの露点;
。利用できるきれいなフレーム、出現および高い清潔に会う容易なクリーニング管理
電子産業の条件。