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Nanjing Kelisaike Safety Equipment Co., Ltd.

シティ：nanjing

省/州：jiangsu

国/地域：china

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China KF200 レーザーガス分析機工業排出量のCO,NH3,HCl,O2のモニタリングのためのIn-situ TDLAS分析機 wholesale

KF200 レーザーガス分析機工業排出量のCO,NH3,HCl,O2のモニタリングのためのIn-situ TDLAS分析機

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記述 :KF200シリーズレーザーガス分析機は,産業オンライン分析とオンライン環境モニタリングを目的として開発されています.

ストック :ストック100個

最低注文量 :MOQ 1pc

支払条件 :T/T

輸送方法 :急行

製品名 :KF200レーザーガス分析機

測定原則 :調節可能ダイオードレーザー吸収スペクトロスコピー (TDLAS)

測定測定されたガス :CO,NH3,HCl,O2,H2O (カスタマイズ可能)

装置の種類 :インシチュー,クロススタック,プロブタイプ

応用分野 :CEMS、DeNOx、廃棄物焼却、セメント、発電所

動作温度 :800°Cまで,冷却もオプション

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KF200レーザーガス分析機

製品説明

KF200シリーズのレーザーガス分析機は,産業オンライン分析とオンライン環境モニタリングを目的として開発されています. 基礎として半導体レーザー吸収スペクトロスコピー (DLAS) 技術は統合設計と高度な統合の特徴で開発されています

KF200シリーズレーザーガス分析機の様々なタイプn-situ 探査タイプ,byパスタイプ,多チャンネル,およびガスなどオー₂CO,NH₃CO₂,CH₄H₂O,HC,HFなど,すべて分析することができます. ターゲットガスの濃度分析には,マクロ分析とマイクロ分析

技術原則:

測定されたガス (背景ガス吸収なし) の特異吸収ピークをスキャンするために,電流と温度を使用してレーザー (調節可能) の波長を調節する.そして,ガス吸収の第2のハーモニックを得ます二次和音情報とガスの拡大を用いて,ガスの濃度を計算することができる.

技術特性:

わかったTDLAS技術が現場でのオンラインガス分析に採用される.

わかった二重防弾探査機の設計は,追加のデータ処理ユニット,シンプルなコンパクトな構造,高い信頼性なしで,正圧浄化を否定する.

わかった高功率レーザーを使用し,繊維結合なし,厳しい労働条件 (過剰な塵など) に適しています.

技術仕様:

テクニカルデータ	線形性エラー	≤ ±1% F.S.
	スパン・ドリフト	≤ ±1% F.S./6ヶ月
	繰り返し可能性	≤ 1%
	カリブレーション期間	≤ 1回/6ヶ月
	防爆グレード	エクス d IIC について T6
	保護レベル	IP66
応答時間	温める時間	≤ 15分
応答時間	応答時間 (T90)	≤ 1 s
インターフェース信号	アナログ出力	2本のワイヤー420 mA 信号入力 (孤立した,最大 750 負荷オー)
	リレー出力	3本のリレー (24 V,1A)
	デジタル通信	RS485/RS232/GPRS
	アナログ入力	2方向420 mA 入力 (気温圧補償)
レーザー安全基準	GB7247.1-2001 (ITD IEC 60825-1:1993)
運用条件	貯蔵温度	-30°C ほら +60°C
	環境温度	-40°C ほら +80°C
	EMC	IEC 6100-4-2,IEC 6100-4-3,IEC 6100-4-4,IEC 6100-4-5,IEC 6100-4-11 試験試験試験用
	ガスジェット	0.3 ¥0.8 MPai工業用窒素入口ガスと浄化器具ガス,などなど
	消費量	< について 20 W
	パワー	24V DC (電圧18~36V DC) 220 V AC

ガス検出制限値:

検知ガスの種類	検出制限	検出範囲
オー₂	0.01% Vol.	(0-1) %Vol., (0-100) %Vol.
CO₂	10ppm	(0-1000) ppm, (0-100) %Vol
H₂S	20ppm	(0〜2000) ppm, (0-100) %Vol
HCl	0.1ppm	(0-50) ppm, ((0-100) %Vol
NH₃	0.1ppm	(0-10) ppm, (0-100) %Vol
C について₂H₂	0.1ppm	(0-10) ppm, (0-100) %Vol
CO	10ppm	(0-1000) ppm, (0-100) %Vol
H₂オー	0.3ppm	(0〜50) ppm, (0-100) %Vol
HF	00.02ppm	(0〜5) ppm, (0-10000) ppm
HCN	0.3ppm	(0〜30) ppm, (0-1) %Vol
CH₄	0.4ppm	(0〜40) ppm, (0-100) %Vol
C について₂H₄	0.6ppm	(0〜60) ppm, (0-100) %Vol

注記:

1) について試験条件含める a は1メートル光学経路 1 バールガス圧,そして300 K ガス温度.

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