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Diaは100つのmmの4インチのサファイアの基質のウエファーの単一の側面磨いた
指定
オリエンテーション | (22-43)スケッチ22-43平面每のCからの平らなoffcut 0.45° |
直径 | 100mmの± 0.2mm |
厚さ | 650um ± 20um/850um ± 20um |
弓 | <10 microns=""> |
ゆがみ | <20 microns=""> |
TTV | <10 microns=""> |
主要な平たい箱 | M軸線+0.3°;32+1mm |
マイナーな平たい箱 | どれも |
前側 | < 0=""> |
裏側 | <1> |
レーザーID | 主要な平たい箱によって裏側で示される |
包まれる | 25のウエファーを含んでいるカセットは100つのクリーンルームのenvirnmentを分類する |
オリエンテーション:(22-43)スケッチ22-43平面每のCからの平らなoffcut 0.45°
直径:± 100つのmmの0.2 mm
厚さ:650um± 20のum/850um± 20 um
弓: <10 microns="">
ゆがみ: <>20ミクロン
TTV: <10 microns="">
主要な平たい箱:M軸線+0.3°;32+1mm
マイナーな平たい箱:どれも
前側:< 0="">30nm
裏側:<1>
レーザーID:主要な平たい箱によって裏側で示される
包まれる:25のウエファーを含んでいるカセットは100つのクリーンルームのenvirnmentを分類する
プロセス フロー