高周波超音波液体プロセッサの超音波細胞の撹乱物質

超音波細胞の中断の器械のための20Khz実験室の超音波液体プロセッサ

変数

導入:

超音波の相当な強度および高い超音波振動広さはナノ結晶化、ナノ乳化、deagglomeration、抽出、細胞の中断、また多くの他のような多くの処理の適用に、要求されます。一般に、プロセスは実験室スケールで最初に可能性を証明し、必須の超音波露出変数のいくつかを確立するためにテストされます。次にこの段階が完全だった後、プロセスは試作期間の最適化流れによるのための試験（ベンチの）スケールと連続的な生産のための産業規模に移ります。これらのスケールのステップの間に、すべてのローカル露出の状態（超音波広さ、キャビテーションの強度、時間活動的なキャビテーションの地帯で使われる、等）が同じをとどまることを確かめることは必要です。この条件が満たされれば、最終製品の質は最大限に活用されたレベルで生産性は予想できる「スケール要因」のによって高められるが、停まっています。生産性上昇は従って実験室、ベンチおよび産業スケールの超音波プロセッサ システムが漸進的により大きい高輝度のキャビテーションの地帯を発生させ、時間の単位ごとのより多くの材料を処理することできる漸進的により大きい超音波角を組み込むという事実に起因します。これは「直接スケーラビリティ」と呼ばれます。（頻繁にあります）超音波広さおよびキャビテーションの強度の減少と一緒に伴われることをかもしれないので、直接スケーラビリティで単独で超音波プロセッサの入力を高めるそれを指摘することは重要起因しませんであり。直接スケールの間に、すべての処理条件はより大きい超音波角の操作を可能にするために装置の電力定格は高められるが維持されなければなりません。この装置のための最適操作の状態を見つけることはプロセス エンジニアのための挑戦で、超音波プロセッサの副作用についての深い知識を必要とします。

適用:

•細胞のdisrupter （植物の物質の抽出、の酵素の非活動化消毒）

•ティッシュ（癌治療）の体温発散の治療上の超音波、すなわち誘導

•点爆時間の減少および/または収穫の増加

•より少ない強制の使用は例えばより低い反作用の温度を調節します

•反作用細道の可能な切換え

•より少しの使用か相間移動触媒の回避

•ガス抜き処理は気体プロダクトとの反作用を強制します

•粗野なか技術的な試薬の使用

•金属および固体の活発化

•誘導期の減少

•試薬または触媒の反応の強化

•有用な反応種の生成

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