半導体プロセスおよび光学機械類装置のための高精度の炭化ケイ素の部品
型式番号:MS
原産地:中国
最低順序量:1部分
支払の言葉:L/C、D/A、D/P、T/T、ウェスタン・ユニオン、MoneyGram
供給の能力:1ヶ月あたりの10000部分
受渡し時間:3仕事日
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正会員
Zhengzhou Henan China
住所：
第26のDongqingの通り、ハイテクな地帯、鄭州、河南、中国
サプライヤーの最後のログイン時間:
内 48 時間
製品詳細
会社概要
製品詳細
高精度の炭化ケイ素の部品のための
半導体プロセスおよび光学機械類装置
炭化ケイ素のロボティック腕は地殻均衡プロセスによって押すおよび高温の焼結形作られる。ユーザーの設計デッサンの条件に従ってユーザーの特定の条件を満たすために、サイズ、厚さおよび形は終了する。
典型的な適用
- さまざまな半導体の製造工程でウエファー伝達のために使用される。
特徴および利点
- 正確なサイズおよび熱安定性
- 高い特定の剛さおよび優秀な熱均等性は、長期使用変形を曲げて容易ではない;
- ウエファーに滑らかな表面およびよい耐久性があり、ウエファーの安全な処理を粒子の汚染なしで許可する。
- 非磁気106-108 Ω ESDの抵抗の標準条件の調和のCoresicの® SPの抵抗の炭化ケイ素;それは静電気がウエファーの表面で集まることを防ぐ。
- よい熱伝導性、拡張の低い係数。
指定
- 顧客のデッサンに従って、私達は腕の異なった形そしてサイズを処理してもいい。
炭化ケイ素の真空のチャックは地殻均衡プロセスによって押すおよび高温の焼結形作られる。ユーザーの設計デッサンの条件に従ってユーザーの特定の条件を満たすために、サイズ、厚さおよび形は終了する。
典型的な適用
半導体の製造業では、非常に薄いウエファーは真空の発電機に接続される炭化ケイ素の真空の吸盤に置かれウエファーは真空の吸引によって固定される。
石版印刷、エッチング、処理する、ウエファーのテストおよび他のプロセス レーザーで使用される。
特徴および利点
正確なサイズおよび熱安定性
拡張のよい熱伝導性、低い係数および温度の均等性
非常に高く耐久性を表面の終わり、良い気孔のサイズおよびユニフォームの配分はウエファーのすべての区域に、均一に吸着することができる
優秀な酸およびアルカリの耐食性
血しょう耐衝撃性
指定
顧客のデッサンの処理に従ってカスタマイズすることができる。
半導体プロセスおよび光学機械類装置のための高精度の炭化ケイ素の部品
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