磨く研摩剤ELECTROFORMEDのラップおよび粉砕の研摩剤

GLANZOX

GLANZOXは特別な原料と液体で中断されるコロイド無水ケイ酸である。半導体ウエハーで、GLANZOXはナノメーターのレベルに近く完全に滑らかな表面を作り出す。

さらに、GLANZOXは磨くプロセスによって残すことができる金属の不純物を非常に減らす。

適用:ケイ素

研摩のタイプ:コロイド無水ケイ酸

COMPOL

COMPOLはリチウムtantalate （LiTaOのような磨く金属、製陶術および電子基質のために特に開発されるコロイド無水ケイ酸のスラリーである3）のリチウム ニオブ酸塩（LiNbO3）およびサファイア。優秀な粒子の均等性および分散によって、それは高い取り外し率および無傷性に磨くことを提供する。

適用:製陶術、サファイア、金属、リチウム ニオブ酸塩、リチウムTantalate

研摩のタイプ:コロイド無水ケイ酸

FZ

FZはultra-fineジルコニウムの酸化物粒子から成り、モリブデン、タングステン、クロム、チタニウム、ニッケルおよび合金のような特別な金属を磨くために最適である。堅いウレタンのパッドおよび磨くピッチと使用されたとき、FZは金属に深い、傷なしの光沢を作り出す。またすべての傷および隆起をレンズの表面から取除き、透過光で干渉を除去する光学レンズの最終的な磨くことのためにFZ-02を使用できる。

適用:ガラス、金属

研摩のタイプ:ジルコニア

CLEALITE

CLEALITEはアルミニウム、ステンレス鋼およびチタニウムのようないろいろな種類の金属のミラーの終わりを作り出す磨くスラリーである。使用される10nm （Rmax）の表面の粗さの傷の自由な表面を提供するためにタイプによって特別な添加物は含まれている。CLEALITEはまた金属のために最終的な光沢として使用することができる。

適用:金属

研摩のタイプ:コロイド無水ケイ酸

INSEC

INSECシリーズは化合物半導体材料の高精度ミラーの終わりを作り出す。INSECシリーズはまた導関連のGaAsおよびギャップ プロダクトのためのエッチングの代理店としてよく働く。

INSECプロダクトすべては微粒の形に来、使用の前に分解しなければならない。

適用:ガリウム砒素、ガリウム リン化物、リン化インジウム

研摩のタイプ:研摩の微粒

PWA -血小板によってか焼されるアルミナ

PWAは99.0%の純度の酸化アルミニウム（Al2O3）のplate-shaped水晶から成っている白いか焼されたアルミナの研摩粉である。

• 化学的に不活性
• 酸かalkalinesによって腐食されない
• 優秀な耐熱性特性
• ほとんどの製造業者から利用できるより均一等級の大きい数

粒度分布は堅く制御され、非常に良い重ね合わせられた表面を作り出し広い応用範囲を許可する。

適用:ケイ素、水晶、ステンレス鋼、光学材料

研摩のタイプ:白いか焼されたAumina

WA -白い溶かされたアルミナ

WAは溶かされたアルミナを押しつぶし、均一サイズに粒子を分類することによって作り出される溶かされた白いアルミナの研摩粉である。生じる混合物に次の特徴がある:

• αの‑のタイプ鋼玉石の水晶構成
• 少なくとも96.0%純粋な酸化アルミニウム（Al2O3) 構成
• 炭化ケイ素とほとんど同じ硬度
• 厳しく規制された粒度配分
• 一貫した粒子の形

これらの特徴はWAに高レベルに表面の磨くことのためのすばらしい選択をする。

適用:金属、水晶

研摩のタイプ:白い溶かされたアルミナ

A - 規則的な溶かされたアルミナ

Aは一般にArundumとして知られている最も広く知られていた研摩粉、である。Fujimiは2000° Cの温度で少なくとも90%純度の酸化アルミニウム（Al2O3）の鋼玉石の水晶を得るために電気炉のボーキサイトを溶かすことによってAを作り出す。

さらに、プロセスは研摩の粒子の靭性（粘着性）を高めるチタニウムの小さいパーセントの水晶を溶かす。その結果、AにすべてのFujimiの研摩粉の靭性の高度がある。Fujimiは非常に能率的な、非常に安定した研摩剤のための粒度の一貫した配分のためのAを製造する。

適用:柔らかい金属、ガラス、陰極線管

研摩のタイプ:溶かされたアルミナ