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高温や腐食耐性のある部品用にカスタマイズされたアルミナ製品
高精度アルミニウムセラミックコンポーネントは,高精度計測用用に特別に設計された超純アル2O3材料 (≥99.6%純度) を利用しています.ナノメートルの表面仕上げ (Ra≤0).05μm) とマイクロンレベルの寸法精度 (±0.005mm) で,これらのコンポーネントは半導体機器,光学機器,医療機器の最も厳しい要件を満たしています.
半導体製造: ワッフル処理用アーム,真空室内装具,プラズマノズル
オプティカル・インストルメンテーション: レーザー鏡のマウント,スペクトロメーターのスライス組,インターフェロメーターの基準プラットフォーム
医療分析機器: マススペクトロメーター イオンソース,クロマトグラフィカルセラミックコラム,PCR熱循環モジュール
科学研究:UHVフレンズ,冷凍実験プラットフォーム,シンクロトロン放射線光学
工業計量学:CMM探査機の尖端,表面プロフィロメーターの基準ブロック,丸みテストのターンテーブル
ほら超精密加工: プロファイルの精度 ≤0.1μm,角容量 ±5弧秒
ほら特別 の 安定性: CTE 7.2±0.1×10−6/°C (20-100°C)
ほら超清潔な表面:金属イオン含有量 < 1ppm
ほら機能的カスタマイズ: 統合導電/隔熱/反静電ゾーン
ほら環境 に 対する 抵抗: 放射線容量 >106Gy,排出速度は <10−11Pa·m3/s
パラメータ | 仕様 |
---|---|
物質 の 清潔さ | Al2O3≥99.6% |
密度 | 3.92±0.02g/cm3 |
表面の荒さ | Ra≤0.05μm |
平らさ | ≤0.1μm/25mm |
ヴィッカース硬さ | HV0.5≥1800 |
バキューム密度 | 漏れ率 <10−10mbar·L/s |
超細粉末加工: 50nm アルミナガム粉末スプレー粒
イソスタティックプレッシング: 200MPa の冷たいイソスタティックプレス
大気合気合気: 水素大気で1700°Cでシントリング
超精密加工: 5軸のスローワイヤEDM +ダイヤモンド磨き
クリーンルーム処理クラス100 超音波浄化
完全検査: 白光干渉測定 + CMM 完全な次元検証
▷ 設置中に専用のクリーンルームツールとESD手袋を使用
▷ 推奨 動作 温度: -60°C から 450°C
▷ 強烈 な 腐食 物質 (HF,熱い リン酸 など) を 避ける
・ 500 営業時間ごとにプラズマ清掃を推奨する
保存条件: 22±1°C,45±5% RH
Q: ISO-10110 オプティカル 表面規格を満たすことができますか?
A: λ/20@632.8nm オプティカル・フラットネスに対応する
Q: 導電性セラミックソリューションを 提供していますか?
A: 調整可能な表面抵抗 104-1010Ω
Q: 単品の最大寸法?
A:電流容量300×300×50mm (より大きな組成品が利用可能)
Q:UHVの性能はどのように保証されますか?
A: 特別 の シンタリング プロセス に よれ ば,ほとんどの 金属 より 低 排出 ガス が 発生 する