HDPE 柱 角粗質 表面 地膜 高強度 漏れ防止

モデル番号:6m-8m 幅と50m-100m ロール長さ
産地:中国
最低注文量:330m2
支払条件:T/T,L/C
供給能力:1200T/month
配達時間:7~15 日
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確認済みサプライヤー
Changsha Ningxia China
住所: チュアンエ通り 寧夏経済開発区 チャンシャ市 湖南省 中華人民共和国
サプライヤーの最後のログイン時間: 内 19 時間
製品詳細 会社概要
製品詳細

高強度防水性HDPE柱点粗質表面ジオメムラン
 
製品紹介
柱状の角質の表面の地膜は,特殊なタイプの地膜で,フィルムの表面に柱状または角状の質感を加えることで摩擦係数と粘着性を増加させる.
 
製品特性
1摩擦系数強化: 柱点設計により摩擦系数が高く,斜面や垂直表面の安定を維持するのに役立ちます.
2良好な防水性: 地膜の基本機能を維持し,水や汚染物質の侵入を効果的に防止します.
3化学腐食耐性:様々な化学物質の腐食に耐性があり,様々な環境に適しています.
4環境ストレスの破裂耐性: 厳しい環境で破裂することは容易ではなく,良好な安定性を維持します.
5温度に適性: 熱耐性も冷え性も良好で,様々な気候条件に適しています.
 
製品使用
1斜面工学:特に急斜面では,斜面の滑り防止および浸透防止に使用される.
2埋立地: 埋立地の斜面で使用され,汚染物質や滑雪が浸透するのを防ぐ.
3排水池:有害物質の漏れを防ぐために排水池の漏れ防止と安定化に使用されます.
4貯水池,DAMS,および他の貯水プロジェクトで使用され,構造の漏れ防止能力を高めます.
 
製品シリーズ
シングルテクスチャのジオメムラン 双壁のジオメムラン
 
製品仕様
厚さ:0.30mm~3.00mm
* 幅: 4m~8m
* ロール長: 50m~100m (カスタマイズされた要求を受け入れます)
PS:上記のすべてのためにカスタマイズされた要求を受け入れます.
 

地膜シリーズ

質感のあるHDPE地膜 (GB/T 17643-2011 ((GH-2T1,GH-2T2))

シリアル番号プロジェクトインデックス
厚さ(mm)0.751.001.251.502.002.503.00
1密度 (g/c)m2(≥)≥0.940
2質感の高さ (mm)≥0.25
3収力強度 (N/mm,LD/TD)≥11≥15≥18≥22≥29≥37≥44
4断裂強度 (N/mm,LD/TD)≥8≥10≥13≥16≥21≥26≥32
5年収伸び率 (%)≥12
6折りたたみの長さ率 (%)≥100
7直角型破裂強度 (N)≥93≥125≥160≥190≥250≥315≥375
8穿刺強度 (N)≥200≥270≥335≥400≥535≥670≥800
9張力ストレスの破裂 (ノッチ常負荷張力方法) h≥300
10カーボンブラック含有量 (%)2.0~30
11炭素黒の分散グレード3は10分の1以上で,グレード4とグレード5は許されない
12酸化誘導時間 (OIT)標準OIT (min) ≥100
高圧OIT (min) ≥400
1385°C熱性老化 (大気圧 OIT 保持 90 日後)≥55
14紫外線放射 1600 時間後 OIT 保持率 (%)≥50

 

(CJ-T234-2006)

仕様1.00mm1.25mm1.50mm2.00mm2.50mm3.00mmコメント
ポイント
厚さ (mm)1.00mm1.25mm1.50mm2.00mm2.50mm3.00mm 
質感の高さ (mm)0.25 
密度 (g/cm2,≥)0.94 
張力特性
収力強度 (N/mm,LD/TD)151822293744 
断裂強度 (N/mm,LD/TD)101316212632 
年収伸び率 (%)12 
折りたたみの長さ率 (%)100 
直角型破裂強度 (N)125156187249311374 
穿刺強度 (N)267333400534667800 
環境ストレスの破裂耐性 (h)
(単点切断の常張力法)
300 
炭素ブラック
カーボンブラック含有量 (%)2.0~30 
炭素黒の分散10の観測エリアのうち9はグレード1かグレード2で,グレード3のレベル1を超えない 
酸化誘導時間 (OIT)
標準OIT (分)100 
高圧OIT (分)400 
85°C オーブンの老化 (最低平均)
調理後90日,標準OIT保持率 (%)55 
調理後90日,高圧OIT保持率 (%)80 
紫外線 抵抗 力
1600時間後の紫外線照射,標準OIT保持率 (%)50 
1600時間後の紫外線照射,高圧OIT保持 (%)50 
-70°C 低温の脆性性能への影響パスする 
水蒸気浸透系数 g.cm (cm2.s.Pa)≤1.0X10-13 
次元安定性±2 
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