KF200 レーザーガス分析機 工業排出量のCO,NH3,HCl,O2のモニタリングのためのIn-situ TDLAS分析機
記述:KF200シリーズレーザーガス分析機は,産業オンライン分析とオンライン環境モニタリングを目的として開発されています.
ストック:ストック100個
最低注文量:MOQ 1pc
支払条件:T/T
輸送方法:急行
製品名:KF200レーザーガス分析機
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確認済みサプライヤー
Nanjing Jiangsu China
住所：
Bldg 12, 2 清水東路,南京,江蘇,中国, 211102
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製品詳細
会社概要
製品詳細
KF200レーザーガス分析機
製品説明
KF200シリーズのレーザーガス分析機は,産業オンライン分析とオンライン環境モニタリングを目的として開発されています. 基礎として半導体レーザー吸収スペクトロスコピー (DLAS) 技術は統合設計と高度な統合の特徴で開発されています
KF200シリーズレーザーガス分析機の様々なタイプn-situ 探査タイプ,byパスタイプ,多チャンネル,およびガスなどオー2CO,NH3CO2,CH4H2O,HC,HFなど,すべて分析することができます. ターゲットガスの濃度分析には,マクロ分析とマイクロ分析
技術原則:
測定されたガス (背景ガス吸収なし) の特異吸収ピークをスキャンするために,電流と温度を使用してレーザー (調節可能) の波長を調節する.そして,ガス吸収の第2のハーモニックを得ます二次和音情報とガスの拡大を用いて,ガスの濃度を計算することができる.
技術特性:
わかったTDLAS技術が現場でのオンラインガス分析に採用される.
わかった二重防弾探査機の設計は,追加のデータ処理ユニット,シンプルなコンパクトな構造,高い信頼性なしで,正圧浄化を否定する.
わかった高功率レーザーを使用し,繊維結合なし,厳しい労働条件 (過剰な塵など) に適しています.
技術仕様:
ガス検出制限値:
注記:
1) について試験条件含める a は1メートル光学経路 1 バールガス圧,そして300 K ガス温度.
KF200 レーザーガス分析機 工業排出量のCO,NH3,HCl,O2のモニタリングのためのIn-situ TDLAS分析機
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