半導体材料の薄膜の調製のためのCVDオーブンの堆積装置
パッケージの詳細:木製のケースの包装
供給能力:30の部分/部分每の 四分の一
最低注文量:1セット
配達時間:60 日
支払条件:L/C/T/t
産地:湖南,中国
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確認済みサプライヤー
Zhuzhou Hunan China
住所：
建物のB4 シンマ工業公園,天井大道959,天井区,湖南省,中国
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内 24 時間
製品詳細
会社概要
製品詳細
仕様:
バキューム堆積炉:
主に炭素-炭素複合材料の調製に使用され,堆積炉は主にグラフィートの表面にピロリティカルカーボンコーティングを調製するために使用されます.半導体装置と耐熱スクール材料.
パラメータ/モデル番号 | JT-0305-C | JT-0505-C | JT-0608-C | JT-0608-C | JT-0812-C | JT-1120-C | JT-1218-C | JT-1520-C |
作業領域の大きさ φ×H(mm) | 300×500 | 500×500 | 600×800 | 600×1200 | 800×1200 | 1100×2000 | 1200×1800 | 1500×2000 |
最高温度 (°C) | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 | 2300 |
温度均一性 (°C) | ±5 | ±5 | ±5/±75 | ±7.5/±10 | ±7.5/±10 | ±10/±15 | ±10/±15 | ±15/±20 |
制限真空度 (Pa) | 1〜100 | 1〜100 | 1〜100 | 1〜100 | 1〜100 | 1〜100 | 1〜100 | 1〜100 |
制限真空度 (Pa) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
加熱方法 | 抵抗/インダクション | 抵抗/インダクション | 抵抗/インダクション | 抵抗/インダクション | 抵抗/インダクション | 抵抗/インダクション | 抵抗/インダクション | 抵抗/インダクション |
設計温度 | 1250°C/1650°C/1800°C/2200°C |
一般温度 | 900~1200°C |
バキューム度 | < 50Pa |
圧力の上昇速度 | 6.67pA /h (または150Pa / 24h) 空炉の冷たい状態で |
暖房モード | グラフィット抵抗式加熱またはインダクション式加熱,独立温度制御,良好な温度均一性 |
大気圏 | 真空 /CH4/C3H6/H2/N2/Ar |
ガス制御モード | 質量流量計制御,多チャネルガス経路,均質な流量場,沉積死角なし,良好な沉積効果;多段階で効率的な排気ガス処理システム,環境に優しい,掃除が簡単 |
オーブンの種類 | 方形,丸い,垂直または水平構造 (非標準設計),完全に閉ざされた堆積室,良好な密封効果 強力な汚染防止能力 |
オーブンの冷却モード | 炉殻水冷却,外流速冷却システムが選択できます,短い冷却時間,高い生産 効率性 |
構造形 | 横向き - 側放出,垂直 - 上下放出 |
ロックモード | マニュアル/自動 |
殻材料 | 内部ステンレス鋼/全ステンレス鋼 |
断熱材料 | 炭フェルト/グラフィットフェルト/炭素繊維で固められたフェルト |
赤外線機器 | 単色計/二色計 |
電源 | KGPS/IGBT (中周波暖房のみに適している) 製品パラメータ: |
半導体材料の薄膜の調製のためのCVDオーブンの堆積装置
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