精密光学とレーザーシステムのためのUV溶融シリカガラスディスク
産地:上海,中国
供給能力:月に100000個
モデル番号:QB01245354
コーティング:入手可能
OEM:入手可能
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Shanghai Shanghai China
住所：
Rm. 2111,Bldg. A,トムソンセンター,No. 188,ジャンヤング・ロード,上海,中国
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製品詳細
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製品詳細
精密光学とレーザーシステムのためのUV溶融シリカガラスディスク
材料
紫外線溶解シリカ: 高純度シリコン二酸化物 (SiO2) で構成され,紫外線 (UV) の伝達に最適化された合成ガラス.
評価: JGS1 (深紫外線透明度,185~2500nm) とJGS2 (220~2500nm) を含む.性能とコストをバランスする.
純度: 低金属性不純物と水酸化物 (OH) の含有量は,UVスペクトルでの最小限の吸収を保証します.
主要な特性
UV透明性:深紫外線から近赤外線 (NIR) への特殊な伝播は,UVレーザーアプリケーションにとって極めて重要です.
熱安定性: 低熱膨張 (≈0.55 x 10−6/°C) は,高功率レーザー曝露や温度変化による変形に抵抗する.
化学 耐性: 酸,溶媒,プラズマに耐性があり,厳しい産業環境に最適です.
レーザーダメージの限界: レーザーによる損傷に強い耐性があり,パルスおよび連続波レーザーに適しています.
表面の質: 表面下欠陥を最小限に抑え, λ/10 の平らさに磨き上げられ,精密なビーム制御を保証する.
均質性: 歪みのない光学のための均一屈折率 (±5 x 10−6)
機能
オプティカルウィンドウ: 繊細な部品を環境要因から保護しながら,紫外線を伝達します.
サブストラット: 鏡,フィルター,ビームスプリッタのコーティング (反射,介電) のベースとして使用する.
射線発信: レーザー空洞,コリマター,そしてフォーカスシステムでビームの整合性を維持します.
オプティカル・フラット: 干渉計測と校正のための基準面を用意する.
申請
レーザーシステム:UVエクシマーレーザー,Nd:YAGシステム,光線誘導と出力窓のためのフェムト秒レーザー.
半導体リトグラフィ: フォトリトグラフィーマスクやステップシステムにおけるUV照明の提供
精密光学: 望遠鏡の鏡,顕微鏡のスライド,干渉計の部品.
医療機器: 紫外線 消毒 装置,レーザー 手術 ツール,診断 画像 装置.
航空宇宙・防衛:UVセンサー,LIDARシステム,高エネルギーレーザー (HEL) のアプリケーション
研究:光譜学,紫外線光学,量子光学実験
| 名前 | ガラスのディスク,ガラスのワッフル |
| 材料 | 光学ガラス,クワルツガラス,パイレックス,ボロシリケートガラス,浮遊ガラス,ボロフロート |
| 直径の許容度 | +0/-0.2 mm |
| 厚さの許容度 | +/-0.2mm |
| 加工された | 切る,磨く,冷却する,磨く |
| 作業温度 | 高温ショックに耐える |
| 表面の質 | 80/50,60/40,40/20 |
| 物質 の 質 | 傷も空気の泡も |
| トランスミッション | 可視光では>92% |
| シャムファー | 0.1-0.3mm × 45度 |
| 表面塗装 | 入手可能 |
| 使用 | 写真,照明システム,産業用エリア |
精密光学とレーザーシステムのためのUV溶融シリカガラスディスク
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