アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板
原産地:中国
支払条件:信用状、D/A、D/P、T/T、ウェスタンユニオン、マネーグラム
供給能力:2,000 PC/月
パッケージの詳細:強力な木製の箱 グローバル輸送のために
モデル番号:カスタマイズ可能
材料:シック
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確認済みサプライヤー
Chaoyang Shaanxi China
住所：
中国陝西省西安市西咸新区秦漢新城渭城街道朝陽路5号、712039
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内 25 時間
製品詳細
会社概要
製品詳細
アルミナ (al2o3),アルミニウムナイトリド (aln),シリコンナイトリド (si3n4) およびその他の陶器材料に基づく基板
アルミナ (Al2O3),アルミナイトリド (AlN),シリコンナイトリド (Si3N4) などを基にした基板は,その性質により電子産業で広く使用されています.
| 特徴 / 材料 | アル2O3 96% | Al2O3 99,6% | アルナール | Si3N4 |
| 表面密度,g/cm3 | 37~38 | 38から8まで9 | 3,3 | 3,5 |
| ビッカーの硬さ GPA | 16 | 21 | 11 | 15 |
| 折りたたみ強度 MPa | 500 | 400 | 320 | 750 |
| 弾性電極,GPa | 340 | 350 | 320 | 300 |
| 熱伝導性 (W/m·K) | 24 | 28 | 180 | 55 |
| TCLE 10-6/oК | 68から8まで0 | 68から8まで5 | 47~56 | 2,7 |
| 電気強度,KV/mm | 15 | 10 | 16 | 36 |
| 音量抵抗,オム*m | >1012 | >1012 | >1012 | >1012 |
| 変電容量 | 9,8 | 9,9 | 8,9 | 8,5 |
主な用途:
- 陶器印刷回路板 (PCB) のマート;
- 厚膜技術や薄膜技術による金属化用基板
- 薄膜技術による金属化のための磨いた基板
- LED,レーザーダイオードの基板
- 高密度な穴と結晶の溝を持つマイクロ波集積回路およびマイクロ組成のための精密基板
- 抵抗装置,リオスタット,燃料レベルセンサー,圧力などのための複数のボード
- 毒性物質,電離放射線,磁場などのセンサー回路のキャリア
- 空気イオン化器とオゾン化器のウエーファー
- 電子部品から冷却ラジエータへの熱を吸収するための隔熱パッド
- ピエゾ電気トランスデューサーの部品の保護具
- 平らな暖房エレメントのベースとホルダー,高功率半導体装置の結晶
- 熱電気モジュール (ペルティエ・エレメント) のプレート
- ラジオ周波数プラズマジェネレーターのスクリーン
アルミナ (Al2O3) の製品の用途
アルミナ (Al2O3)
は,材料の特性と最も低いコストの優れた組み合わせを持っています.高い機械的強度,硬さ,耐磨性,耐火性,熱伝導性,化学的慣性により,生産コストを削減するために高価な材料を交換することが可能になります..
Al2O3の含有量は96%から99.7%に及び,厚さは0.25mmからなる.表面は磨きまたは磨き,金属化および任意の幾何学が可能である.
アルミニウムナイトリド (AlN) の製品の応用特性
アルミナイトリドAlNは,優れた保温特性,高熱伝導性,強度,低熱膨張系数により,高性能電子機器に使用される.隔離ゲートバイポーラトランジスタ (IGBT)通信システム,LED インジケーター,受動部品,冷却装置,コンポーネントの直接接続25~11mm薄膜および厚膜構造のための加工オプション:磨き仕上げと磨き表面.金属化および任意の幾何学が可能です.
シリコンナイトリド (Si3N4) の製品の用途
シリコンナイトリド (Si3N4) は,連続熱循環,深真空,摩擦の増加,その他の厳しい作業条件において,例外的な機械特性を有する.優れた耐磨性と非常に高い屈曲強度により,基板を製造することができます..3 mm の厚さで,熱抵抗値が低い (1.0 mm 厚のアルミナイトリード) が,広い温度範囲や他の環境の条件において安定した機械性能を著しく改善する.
シリコンナイトリッドは他の陶器材料と比較して高い放射線耐性,耐腐蝕性,相当な電力強度を有する.
アルミナ Al2O3 / 窒化アルミニウム AlN / 窒化ケイ素 Si3N4をベースとしたセラミック基板
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