インシチューレーザープロセスガス分析機ガス濃度を測定するための伝送型KGD - MQ - 507

モデル番号:KGD-MQ-507

産地:中国

最低注文量:1PCS

支払条件:L/C,D/A,D/P,T/T,ウェスタンユニオン,マネーグラム

供給能力:1000個/週に1個交渉可能

配達時間:5~8 営業日

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Xi'an Kacise Optronics Co.,Ltd.

確認済みサプライヤー

住所：都市11号タンヤン南路陽田区西安シャンシー中国

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製品詳細会社概要

製品詳細

現地レーザー処理ガス分析器ガス濃度を測定するためのKGD-MQ-507型伝送器

製品属性

属性	価値
測定された成分	H2S,O2,CO,CO2,CH4
測定原則	TDLAS
設置方法	インサイト設置
精度	≤ ± 1%F.S.

製品説明

ガス濃度を測定するためのIn-situレーザープロセスガス分析機 (伝送型) KGD-MQ-507

製品紹介

KGD-MQ-507 インシチューレーザープロセスガス解析器は,調節可能な二極子レーザー吸収スペクトロスコピー (TDLAS) 技術をベースとした高性能光学分析機器である.伝達型設計で,工業プロセスガス制御に使用できます.速度の高い応答時間で,通常は現場測定のために秒で計算されます.サンプリングによる測定による時間遅れを回避し,測定されたガス濃度をオンラインで迅速に反映できる..

製品の特徴

TDLAS技術を使用すると,測定されたガスは背景ガスの交差干渉の影響を受けない.
現地設置,採取前処理システムは必要ありません.
迅速な応答 (T90 ≤ 1s) リアルタイムでガス濃度を反映できる.
リアルタイムオンライン測定,ガス濃度の歪みが少なく,測定精度は高い.
高温,高塵,高湿度,高腐食,高流量などの厳しい測定環境で適応性が良い.
防爆・防火設計で安全性が高い
シンプルな構造で動く部品も消耗品もなくメンテナンスも不要です

テクニカルパラメータ

性能パラメータ
測定された成分	H2S,O2,CO,CO2,CH4
測定原則	TDLAS
設置方法	インサイト設置
試験範囲	H2S:0〜100ppm,0〜5000ppm O2: (0 - 5) %VOL (100%にカスタマイズできる) CO: (0 - 100) %VOL CO2: (0 - 100) %VOL CH4: (0 - 20) %VOL
精度	≤ ± 1%F.S.
繰り返し可能性	≤ ± 1%
スパン・ドリフト	≤ ± 1%F.S.
決議	0.01%VOL
応答時間	T90 ≤ 1s
動作パラメータ
防爆グレード	Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80°C デイビッド
環境温度	(−20〜+60) °C
動作電源	24V DC,24W
浄化ガス	(0.3 - 0.8) MPa 工業用窒素
インターフェース信号
コミュニケーション	RS485 RS232
出力モード	2方向 4-20mA出力,3方向リレー出力