SrLaAlO4 / LaSrAlO4 LSAO 10x10x0.5mmt5x5x1mmt エピタキシのための基板

SrLaAlO4 /LaSrAlO4 LSAO10x10x0.5mmt5x5x1mmt エピタキシ用の基板

SrLaAlO4 / の要約 ラスロアルO4/ラソ

SrLaAlO4, と書きます.LaSrAlO4元素順序に応じて,ストロンチウム (Sr),ランタン (La),アルミ (Al),酸素 (O) から成る複雑な酸化晶体である.ペロスキット類の酸化晶体属である.材料科学で広く研究され,利用されています.この材料は,高温超伝導フィルム (HTS) の上軸成長のための基板として使用されていることで最もよく知られています.

属性の表SrLaAlO4 /LaSrAlO4/LASO

物理的なイメージSrLaAlO4 /LaSrAlO4/ LASO表示

利益についてSrLaAlO4 /LaSrAlO4/ LASO基質として

格子マッチング:SrLaAlO4の格子定数は,YBCOとLa2CuO4の格子定数と密接に一致し,低ストレートで高品質の表軸接口を生成する.

熱安定性:高温堆積プロセス (~1000°Cまで) に耐えるが,有意な劣化を受けない.

化学的安定性オキシードMBEとPLDで使用される酸素豊富な環境を含むほとんどの堆積大気に対して惰性である.

表面質:高品質の磨きは薄膜の均一性のために不可欠な1nm RMS未満の荒さを持つ平坦で欠陥のない表面を生成します.

共通アプリケーション  についてSrLaAlO4 /LaSrAlO4/LASO

高Tc超伝導体の上軸基板

LaSrAlO4は,YBCO (YBa2Cu3O7−x) と類似のHTSフィルムの基板として最も広く使用されています.高度に方向性のある,上軸性,欠陥のないフィルムの成長を可能にします.臨界電流密度 (Jc) と移行温度 (Tc) を最大化するために必須である.

オキシド電子

LaSrAlO4は,フェロ電気,ダイエレクトリック,スピントロニクスで使用される他のペロスキット型酸化物フィルムの成長に適しています. LaSrAlO3やSrTiO3やLaMnO3のようなフィルムはLaSrAlO4基板で栽培することができます..

フォトニック・エレクトロ・オプティック装置

光学的な透明性と平坦で安定した表面により,光学コーティング,波導体,および可視および近赤外線範囲の非線形光学装置のホストまたはベースとしても使用できます.

多色性ヘテロ構造

SrLaAlO4は,層間の高品質のインターフェースが不可欠な多鉄性および磁気電気装置を含む研究でも使用されています.

Q&A

Q: その通りSrLaAlO4 は なぜ 重要 です か

A: その通りSrLaAlO4の重要性は,主に高Tc超伝導フィルムとの結晶学的な互換性から生じる.高品質の超伝導性薄膜を栽培する主な課題の1つは,フィルムと基板の格子不一致です. 微小な不一致でさえ,超伝導性特性を低下させる不適合の外位を引き起こす可能性があります. SrLaAlO4は,多くのオキシド超伝導体および関連する材料にほぼ完璧な格子マッチを提供します..

さらに, SrLaAlO4 の熱膨張係数は,これらのフィルムに近いもので,温度サイクル (例えば,高温での堆積から冷却まで,冷凍測定や応用のために).

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