磁気的に浮揚されたターボポンプおよびポンプ施設管理CXF-250/2301E

型式番号:CXF-250/2301
原産地:中国
最低順序量:1
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製品詳細 会社概要
製品詳細
磁気浮上ポンプ、CXF-250 / 2301E、水冷、オンボード

磁気浮上分子ポンプは、軸力が磁力によって支えられるポンプです。

シリーズ磁気浮上式分子ポンプは、現代の半導体製造、チップ製造、工業用メッキおよび科学機器の分野の用途要件を満たすためにKYKYによって開発された真空発生装置です。


テクノロジ:

  • 磁気軸受の制御技術:高度な国際制御理論に基づいて、安定した浮上で信頼性の高い動作などの高速軸系加工の重要な利点を保証するための5軸磁気浮上。
  • モーター駆動制御技術:モーターの最大エネルギーを持ち、自動的にシャフトの回転速度を補償することにより、安定した起動、信頼性の高い動作、動的エネルギーの自動調整機能を実現する、高効率高速DCモーターとサーボ制御システム。
  • カーボンファイバーコンポジットローター技術:高強度アルミ合金と軽量カーボンファイバーを配合。 大幅な軽量化と大幅な強度向上を特徴とし、高速回転、高性能、高信頼性を実現しています。
  • 耐食性技術:チャンバー内の部品の表面は特殊な工程で処理されているため、半導体製造工程において腐食性ガスによる腐食に長時間耐えることができます。 また、ポンプ内の低真空部分を保護するためにポンプの軸にN2などの不活性ガスを十分に充填しているため、腐食性ガスを長期間安定して排気する機能が実現されます。
  • 加熱温度制御システム:電気ヒーターと温度コントローラーを装備し、冷却水、エアーボーン加熱、電気加熱、および保護ガスによる熱の伝達を監視および制御し、ポンプ内の温度を一定の値に維持することができます。長期的には、気体物質の中には常温では固体物質に変換されずにポンプ内に堆積しないものがあり、エッチングなどの特別なプロセスの要件を満たすことができます。

アプリケーション:

シリーズ磁気浮上分子ポンプは、主に半導体製造、クリップ製造、工業用メッキおよび科学機器の分野、特にエッチング、CVD、PVDおよびイオン注入に存在する腐食性ガスの抽出および常温で容易に凝固するガスの分野に適用される。


仕様:

フランジ(イン)DN250 CF / ISO-K、ISO-F
フランジ(アウト)KFDN40
ポンプ速度(L / s)N 2 :2300
Ar:2250
彼:1900
H 2 :850
圧縮率N 2:10 8
Ar:10 8
彼:10 4
H 2:10 3
到達圧力(Pa)CF:1×10 -6
ISO-K / F:6×10 -6
最大 連続前真空圧(Pa)60
最大 前真空圧N 2 :250
ガス処理量(sccm)N 2 :3600
Ar:1400
彼:2800
H 2 :2100
回転速度(rpm)27000
立ち上がり時間(分)≤11
冷却タイプ、標準
冷却水消費量(リットル/分)1
冷却水温(℃)20
電源接続:電圧(V AC)220
China 磁気的に浮揚されたターボポンプおよびポンプ施設管理CXF-250/2301E supplier

磁気的に浮揚されたターボポンプおよびポンプ施設管理CXF-250/2301E

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