実験室育てられたダイヤモンド機械MPCVD装置のダイヤモンドの専門の成長装置CVDのダイヤモンド成長機械製造業者
型式番号:BXT-MPCVD
最低順序量:1 （Min. Order）
支払の言葉:L/C、T/T、D/A、D/P
供給の能力:5
受渡し時間:5-8WORK幾日
原産地:中国
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確認済みサプライヤー
Shanghai Shanghai China
住所：
No.5616thのCaoanの道、Jiading地区、上海
サプライヤーの最後のログイン時間:
内 38 時間
製品詳細
会社概要
製品詳細
| マイクロウェーブ発電機およびシステム | 動作周波数 | 2450MHz |
| 出力電力 | 0.1 |調節可能な6つのkW絶えず | |
| 力の安定性 | よくより±1% （@評価される状態）の | |
| 出力導波管インターフェイス | FD-26/22標準的なフランジとのBJ-26/22 | |
| 入力 | 380VAC/50Hzの3-phase 5ワイヤー、11kW | |
| 冷却の水流 | 18L/min | |
| システム定在波係数 | VSWRの≤ 1.5 | |
| マイクロウェーブ漏出 | 国民の標準に合いなさい | |
| マイクロウェーブ真空排出の部屋 | サイズおよび働くモード | Φ200 X 300 （h） TMモード |
| 有効な沈殿区域 | Φ50mm | |
| 圧力制御の範囲 | 0.5KPa~30KPa | |
| 圧力制御の正確さ | ±15Pa | |
| 真空の獲得 | 単結晶の成長 | 10-15μm/Hの成長率、単一の成長の厚さの≥ 1.6mm |
| 単結晶の質 | 肉眼の下のほとんど欠陥無し | |
| 真空システム | 破裂モード | N2が付いている盛り土 |
| 最終的な真空の程度 | よりよいthan8×10-4Pa | |
| 真空の漏出率 | ≤10-9pA.m3/s | |
| 圧力上昇 | 平均圧力上昇24時間はより少ないthan1Pa/Hである |
| ガスのマス フロー システム | 正確さ | 2%-100%F.S.、inletpressureis0.2-0.3Mpa |
| ガスのタイプおよび範囲 | H2 （1SLM）、CH4 （100SCCM）、O2 （10SCCM）、N2 （20SCCM） | |
| サンプル段階システム | サンプル段階の直径 | water-cooled Φ60mm; |
| サンプルの調整範囲 テーブル | 0~15mm | |
| キャビティ版の調整範囲 | 0~60mm | |
| 基質の温度の測定 | 赤外線温度の測定 範囲 | 600~1200℃ （赤外線温度の測定） |
| 温度調整の精密 | 温度調整precision±5℃; | |
| 一定した温度区域の制御範囲 | モリブデンplatform≤30℃の各ポイントの温度の相違 | |
| 装置インターフェイス | 入口および出口水 | G1 "外ワイヤー |
| ガスの関係 | 1/4"ビデオデッキの外ワイヤー | |
| 排気の排出インターフェイス | 3/4"外ワイヤー | |
| 電力線 | TB4506 | |
| 絶縁抵抗 | ≥5MΩ | |
| 信頼性 | 連続的な、安定した作業時間は24Hよりより少なく通常の状態でない | |
| 総電源 | 380VAC±5%/50Hz、3phase5wire、13kW | |
| 総冷水 | 34L/minのきれいな軟水、入口の水温は20℃±5℃である;水圧は0.2~0.4MPaである | |
| 次元 | ~1.95 （L） x0.8 （W） x1.90 （H） m | |
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