ナノの薄膜PVDの沈殿装置、締める物のPVDの薄膜のコータおよび付属品
型式番号:RTAC1250-SPMF
原産地:中国製
最低順序量:1 セット
支払の言葉:L / C、T / T
供給の能力:毎月10セット
受渡し時間:12週間
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住所：
819# SONGWEIの道（N.） SONGJIANGの工業地帯、SHANG HAI、中国201613
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内 1 時間
製品詳細
会社概要
製品詳細
締める物および付属品PVDの薄膜のめっき機械/ナノの薄膜PVDの装飾は終わります
PVDのコーティングはいかに働きますか。
固体高真空の環境で蒸発しか、またはイオン化し、そして電気で伝導性材料で純粋な金属または金属の合金のフィルムとして溶着します。反応ガスは、窒素のような金属蒸気に、酸素か炭化水素ベースのガスもたらされるとき、窒化物、酸化物を作成します、または金属蒸気として炭化物のコーティングはガスと流れましたり、化学的に反応します。PVDのコーティングは専門にされた反作用の部屋で蒸発させた材料が他では部屋にあるあらゆる汚染物と反応しないようにされなければなりません。
PVDのコーティングのプロセス中に、プロセス
パラメータは生じるフィルムの硬度、付着、化学抵抗、フィルムの構造および他の特性が動くそれぞれのために反復可能であるように厳密に監視され、制御されます。さまざまなPVDのコーティングが耐久性を高め、摩擦を減らし、出現を改善し、他の性能の強化を達成するのに使用されています。
チタニウムのような高い純度材料を、クロム沈殿させるためには、かジルコニウム、銀、金、アルミニウム、銅、ステンレス鋼は、PVDのコーティングの物理的なプロセス複数の異なったPVDのコーティング方法の1つを利用しま、下記のものを含んでいます:
アークの蒸発
熱蒸発
放出させるDC/MF （イオンの衝突）
イオン ビームの沈殿
イオンめっき
高められた放出させること
これらの方法のそれぞれは「物理的な蒸気沈殿」のアーチ状に掛ける部門で属します。
PVDの薄膜の特性
- 例外的で審美的な終わり
- 均一コーティング厚さ
- 摩耗および腐食への優秀な抵抗
- PVDのコーティングに硬度の高レベルがあります
精密締める物PVDの薄膜のめっき機械は締める物によって加えられ、ねじ、ボルト、クラッシュ、付属品、化粧品、電子プロダクト、機械機械で使用される帽子のような付属品は自動車産業広くPanton色の変化、金の範囲、黒、青、灰色、銀、虹、青銅、champage等を得るのにPVDの技術を使用しています。
精密締める物PVDの薄膜のめっき機械沈殿源
固体金属ターゲットの蒸発のための操縦された円アークの源;
2組のMFはグラファイトの薄膜の層の沈殿のための放出させる陰極をunblanced;
前処理のための血しょう区域を形作るイオンbomboardmentのためのバイアス電源;
陽極線形イオン源の単位（任意のために） PACVDおよびPECVDの処理;
水分子凝縮のためのCryopump （Polycold） （任意のために）
精密締める物PVDの薄膜のめっき機械構造
1.真空槽
2. Rouhgingの真空ポンプ システム（裏付けポンプ パッケージ）
3.高真空ポンプ システム（磁気的に懸濁液の分子ポンプ）
4.電気制御および操作システム
5. Auxiliarry設備システム（サブシステム）
6.沈殿システム:MFの放出させる陰極、MFの電源、任意のためのバイアス電源イオン源
Machinの性能をめっきする精密締める物PVDの薄膜
1.最終的な真空圧力:5.0×10-6トルよりよくして下さい。
2.作動の真空圧力:1.0×10-4トル。
3. Pumpingdownの時間:1台の自動支払機から1.0×10-4
Torr≤への3分（乾燥した室温は部屋をきれいにし、空けます）
4.材料を（+アークの蒸発放出させる）金属で処理すること:NI、CU、Ag、Au、チタニウム、Zr、Cr、錫、TiC、TiAlN、CrN、CrC、等。
5.作動モデル:手動で完全な自動的に/Semi-Auto/
Machinの指定をめっきする精密締める物PVDの薄膜
| モデル | RTAC1250-SPMF | ||||||
| 技術 | 放出させるMFのマグネトロン+イオンめっき | ||||||
| 材料 | ステンレス鋼（S304） | ||||||
| 部屋のサイズ | Φ1250 * H1250mm | ||||||
| 部屋のタイプ | シリンダー、垂直、1ドア | ||||||
| 放出させるシステム | 薄く黒いフィルムの沈殿のための専ら設計 | ||||||
| 沈殿材料 | アルミニウム、銀、銅、Chromeのステンレス鋼、 ニッケル | ||||||
| 沈殿源 | 2セットはMFの円柱に放出させることが目標とする+ 8つを陰極アークの源+任意のためのイオン源を操縦しました | ||||||
| ガス | MFC- 4の方法、ArのN2、O2、C2H2 | ||||||
| 制御 | PLC （プログラム可能な論理のコントローラー） + | ||||||
| ポンプ施設管理 | SV300B - 1セット（Leybold） | ||||||
| WAU1001 - 1つはセット（Leybold） | |||||||
| D60T- 1セット（Leybold） | |||||||
| ターボ分子ポンプ:2* F-400/3500 | |||||||
| 前処理 | バイアス電源:1*36 KW | ||||||
| 安全システム | オペレータを保護する多数の安全保護インターロック | ||||||
| 冷却 | 冷水 | ||||||
| 電気力 | 480V/3 phases/60HZ （迎合的な米国） | ||||||
| 460V/3 phases/50HZ （迎合的なアジア） | |||||||
| 380V/3 phases/50HZ （迎合的なEU-CE） | |||||||
| 足跡 | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| 総重量 | 7.0 T | ||||||
| 足跡 | （L*W*H） 5000*4000 *4000 MM | ||||||
| サイクル時間 | 30~40分（基質材料によって、 基質の幾何学および環境条件） | ||||||
| 力MAX。 | 155のKW | ||||||
| 平均出力 消費（およそ） | 75のKW |
指定要求されたプロダクトに基づくカスタマイズされた機械サイズはまた利用できます。
より多くの指定のための私達に、高貴な技術総コーティングの解決を提供するために名誉を与えられます連絡して下さい。
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