3インチ石英基板 高純度溶融シリカウェーハ 76.2mm径 JGS1/JGS2
モデル番号:3インチクォーツ・ウェーファー
原産地:中国
最小注文数量:10
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3インチ石英ウェーハの製品概要
3インチ石英基板 高純度溶融シリカウェーハ 76.2mm径 JGS1/JGS2
3インチ石英ウェーハ（76.2mm）は、高度な半導体、光電子、精密光学用途向けに特別に設計された、大判、高純度溶融シリカ基板であり、より広い処理領域を必要とします。 2インチウェーハと比較して、3インチ仕様は生産効率を向上させ、エッジロスを削減するため、バッチ製造されるMEMSデバイス、高度なフォトマスク、レーザー光学システムに特に適しています。
ZMSHは、大判石英ウェーハのカスタム製造を専門としており、以下を提供しています。
· フルサイズ対応: 2インチから12インチのウェーハまで、非標準サイズのカスタマイズをサポート
· 複雑な形状加工: 円形ウェーハ、正方形プレート、特殊形状カット（例：扇形、Dカット）
· 多機能表面処理: 片面/両面研磨、コーティング（AR/IR/DLC）、微細構造エッチング
· 業界ソリューション: 半導体グレードの清浄度（クラス100）、レーザー穴あけ、高精度アライメントマーク
3インチ石英ウェーハの仕様半導体製造
| arameter仕様 | 直径 |
| 3インチ（76.2mm） | 厚さ公差 |
| ±0.02mm | 表面粗さ |
| ≤1nm（研磨グレード） | 193nmでの透過率 |
| >92% | CTE（RT-300°C） |
| 0.55×10⁻⁶/°C | 平行度 |
| ≤5μm | 真空適合性 |
| 10⁻⁹ Torr | 主な特徴 |
3インチ石英ウェーハの 具体的な用途半導体製造
- 深紫外光最適化: 193nmで92%以上の透過率により、ArFリソグラフィおよびDUVレーザー用途をサポート
- 耐熱衝撃性: 熱膨張係数0.55×10⁻⁶/°C、急激な温度サイクル（1000°C/分）に耐える
- 化学的グレードの不活性: プラズマエッチング耐性があり、ドライエッチングおよびCMP環境に適しています
- 機械的補強: オプションの化学強化により、曲げ強度が300%から500MPa向上
主な用途3インチ石英ウェーハの
分野 具体的な用途半導体製造
| 大判フォトマスク基板、EUVリソグラフィ光学系、3D ICインターポーザー | 高出力レーザー |
| レーザー共振器ミラー、kWレベルファイバーレーザーエンドキャップ、超高速レーザーパルス圧縮グレーティング基板 | 量子技術 |
| 量子ビットキャリアウェーハ、コールドアトムチップ真空ビューポート | 航空宇宙 |
| 衛星光学ペイロードウィンドウ、耐放射線センサー保護カバー | バイオメディカル |
| マイクロ流体チップマスター、DNAシーケンシングチップ基板、内視鏡ライトガイド | カスタム石英プリズムソリューション |
| ZMSHは、UVからIR波長域向けの石英プリズムのカスタマイズサービスを提供しており、直角プリズム、ペンタプリズム、ビームスプリッタープリズムなどを含み、以下を特徴としています。 | · ナノメートルレベルの表面精度 |
（λ/10@632.8nm）
· 特殊コーティング
（レーザー損傷耐性コーティング、偏光ビームスプリッターコーティング）· 統合処理
（プリズムウェーハハイブリッド構造、マイクロチャネル冷却設計）レーザービームシェーピング、スペクトル分析、高エネルギー物理実験における最先端の用途に最適です。
FAQ1. Q: 3インチ石英ウェーハは、より小さいサイズと比較してどのような利点がありますか？
A: 3インチ（76.2mm）石英ウェーハは、2インチウェーハよりも44%広い有効面積を提供し、MEMS製造および光学コーティングプロセスにおけるエッジロスを削減し、スループットを向上させます。2. Q: 3インチ溶融シリカウェーハを適切に扱うには、どのように保管すればよいですか？
A: クリーンルームグレードのウェーハキャリアとエッジコンタクトサポートを常に使用し、表面汚染や吸湿を防ぐために、クラス100環境で保管し、湿度40%未満に保ってください。
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3インチ石英基板 高純度溶融シリカウェーハ 76.2mm径 JGS1/JGS2
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