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EライトRFアクネは皮膚の接触の冷却を用いるRemovval IPLの毛の取り外し機械を傷つけます
指定
IPL &Eライト機械:
Eライトは3つの先端技術を結合します:両極無線周波数+ IPL +Skin接触冷却。
lPL&Eライト機械:
適用
1. いろいろな種類の毛色のためのボディのさまざまな区域から望ましくない毛を永久に取除いて下さい
2.表皮の色素形成を取除いて下さい
3.Remove赤い血管
4.アクネおよび傷の処置:丘疹、膿疱、ect
5.最小になり、表面持ち上がること気孔
6.皮の若返りは、深いしわおよび反老化を減します
7.皮の質を改善して下さい:油性、chromatism老化する、乾燥肌、ect
特徴
1. 無線周波数およびIPLは1つの機械複数の使用法別に働くことができます
2.さまざまな毛色のためのパーマの毛の取り外し
3.連続的な仕事24時間の
4.コンピュータとの処置データを一緒に救い、印刷すること容易なUSB機能
5.極度の強力な冷房装置をアメリカから輸入して、冷たい麻酔、ソフトウェアによる調節可能な冷却装置制御を実現して下さい。
6.医学の輸入のサファイア、エネルギー出力均等性、選ぶこと自由なさまざまな点サイズを採用して下さい
7.プラグ アンド プレイ コネクターは安全、信頼できるより容易に取付けるために作ります
8.水位、水臨時雇用者、水不安定および冷凍の失敗のための注意深い装置
9。苦痛無し、副作用無し、短い時間の処置、日常生活の効果無し。
10.磁気ドライブ日本ポンプ+大きい水漕管理された水循環:低雑音、より長い寿命。
11.さまざまな打撃の制御システム、雇用の協同のために便利な理性的な管理。
12。帯電防止および反干渉のセリウムの標準の皮
それがいかに働くか
Eライトは3つの先端技術を結合します:両極無線周波数+ IPL
+Skin接触冷却。皮のインピーダンス相違によって皮が選択式に光学エネルギーを吸収するとき作り出される、軽い熱分解の効果を作り出させます表皮および皮膚に別の病気にかかったティッシュ予備加熱すれば。RFエネルギーの吸収は皮の顔料によって影響されませんでしたり、深い色および薄い色の皮両方のために使用できます。その間、処置の調査の頭部で適用される連絡の表面冷却の技術は処置の過程において非常に減らします苦痛を光子エネルギーに帰因する熱効果を除去できます。そして表面の皮の抵抗を高めま、表面の皮のRFの吸収を減らしま、処置の性能および安全を両方非常に改善します。
変数
プロダクト | Eライト |
ランプ ハウス | 極度の強い脈打ったライト |
スペクトルの範囲 | 480-1200nm: アクネを取除いて下さい |
530 -1200nm: 斑点の処置 | |
560 -1200nm: 皮のrejuvenator | |
590-1200nm: 容器を取除いて下さい | |
640 -1200nm: 不必要な毛を取除いて下さい | |
690-1200nm: 暗い皮の不必要な毛を取除いて下さい(任意) | |
750-1200nm: 不必要な毛を速く取除いて下さい(任意) | |
エネルギーの密度 | 50J/cm2 |
点のサイズ | 8*40mm2、16*50 mm2 |
脈拍の量 | 1~6、調節可能 |
脈拍の間隔 | 調節可能な1~99ms |
副脈拍の幅 | 調節可能な0.1~9.9ms |
周期 | 調節可能な1~4s |
冷却の方法 | 半導体+wind +水冷 |
スクリーン | 5.7/8.4/10.4inch色のタッチ画面 |
電源 | 220V ±10% 50Hz;110V ±10% 60Hz |
働く期間 | 24時間絶えず予備に働くこと |
重量 | 40kg |
自由な部品 | Eライトhandpiece、フィルター、オペレータ ゴーグル、保護ガラス、踏みスイッチ、 |
利点: | |||||
1。 機械の組合せそして取付けは安定性を改善するためにモジュール方式にされました 2.引き起こされる機器損傷を防ぐリモート・コントロールおよび理性的な検出システム 3。 新しい冷却のシステム提供の優秀な水冷システムは十分顧客の必要性を満たすために続きますです
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適用: | |||||
1.皮の若返り: 白くなっている全身 2.そばかすの取り外し: そばかす、melasma、年齢の点、日焼け、皮膚パッチ、等を取り払って下さい 3.色を取除くこと: 赤ら顔、赤み、紅斑、アクネ、rosacea、等 4.入れ墨を取除くこと 5.毛の取り外し:脇毛、毛ライン、ひげ、もみあげ、唇の毛、肢、および他の得て下さい | |||||
IPL技術的な変数: | |||||
エネルギー密度 | 短い脈拍 | 中間 脈拍 | 長く 脈拍 | スペクトル | 冷却装置 |
0-50J/cm2 | 5-25J/cm2 | 5-35J/cm2 | 5-45 J/cm2 | 430-1200nm | Water+の半導体+空冷 |
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