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安定したガスの浄化システムはのための保護、アグロメレーションの保護をアニールします
ガスの浄化のシステム原理:
酸素および水素によって水素とcatalyzator機能の下で水を、に作ることができます
窒素は、混合されたガス最高の十分に装置を除去する酸素の反作用をします
効率のcatalyzator、駆け足の乾燥した主義をに吸収する酸素等の不純物を除去するため
高い純度窒素を得る水を除去して下さい。catalyzatorは全体の間に重大な部分です
従ってパラジウム等貴金属はcatalyzatorのキーであるが酸素プロセスを除去します、また私達
パラジウムcatalyzatorのための呼ばれたcatalyzator。またPalladium呼ばれた触媒。
ガスの浄化のシステム特性:
1. ガスは減少のガス塗布、水素のために適した余分な水素を、かなり含んでいます
内容は管理されます
2.単に主義、完全な構造、低い電力の消費
3。安定したガスの索引、より低い不純物
4. 代わりにオート機能、勤務中の人々の働くことなしで。
5. 広く適用、原料のガスへの特別な条件無し。
ガスの浄化のシステム記述:
いいえ | 項目 | Specs | ノート |
1 | 純度 | >99.9995% |
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2 | 圧力 | ≤6bar | 調節可能 |
3 | 露点 | ≤-70℃ | より低い |
4 | 酸素分 | ≤3ppm |
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5 | 容量 | 5-5000 Nm3/h |
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6 | 方法の作成 | プラスの水素 | H2+ O2=H2Oの反作用 |
技術索引:
いいえ | 項目 | Specs | ノート |
1 | 圧力を作動させて下さい | 6棒 | 調節可能 |
2 | 露点 | -70 ℃ | より低い |
3 | 酸素分 | ≤3 PPM |
|
4 | 水素分 | 0.1%~5% |
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5 | 容量 | 5-5000Nm3/h |
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6 | 純度 | >99.9995% |
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ガスの浄化のシステム応用:
1.冶金学: のために保護、アグロメレーションの保護、炉の洗浄および吹くこと、等アニールして下さい。
、粉末や金金属の暖房処置のような分野で使用される、磁気材料、銅プロセス、
金属網、電流を通されたワイヤー、半導体、等。
2.化学および新しく物質的な企業: 化学物質的なガスのため、ガスの取り替え吹く、パイプライン
化学薬品、ウレタンの伸縮性がある繊維、ゴムのような分野で使用されるガス保護、プロダクト輸送、等
プラスチック、タイヤ、ポリウレタン、生物的技術、中間物、等。
3.Electronic企業: カプセル封入のために、アグロメレーションは、酸素分離、電子の貯蔵アニールします
プロダクト。 、circumfluenceの溶接ピーク溶接のような分野で使用される、水晶、電子圧電気
磁器、電子銅テープ、電池、電子合金材料、等。