光学顕微鏡のデジタル5軸線によってモーターを備えられる段階をスキャンする6x~1000000x
型式番号:A63.7081
原産地:中国
最低順序量:1 pc
支払の言葉:T / T、ウエストユニオン、Paypal
供給の能力:5000 PC 月
受渡し時間:5 〜 20 日
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Beijing Beijing China
住所：
F-1501 Wanda の広場、第 18 Shijingshan 道、北京 100043、中国
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内 1 時間
製品詳細
会社概要
製品詳細
| A63.7080、A63.7081ソフトウェアの主な機能 | ||
| 高電圧統合試運転 | 自動フィラメントオン/オフ | 潜在的なシフト規制 |
| 明るさ調整 | 電気から中央への調整 | 自動明るさ |
| コントラスト調整 | 対物レンズの調整 | オートフォーカス |
| 倍率調整 | 客観的な消磁 | 自動乱視除去 |
| 選択領域スキャンモード | 電気回転調整 | 顕微鏡パラメーターの管理 |
| ポイントスキャンモード | 電子ビーム変位調整 | スキャンフィールドサイズのリアルタイム表示 |
| ラインスキャンモード | 電子ビーム傾斜調整 | ガンレンズ調整 |
| 表面スキャン | スキャン速度の調整 | マルチチャンネル入力 |
| 高電圧電力監視 | スイングセンタリング | 定規の測定 |
| SEM | A63.7069 | A63.7080 | A63.7081 |
| 解像度 | 3nm @ 30KV（SE） 6nm @ 30KV（BSE） |
1.5nm@30KV(SE） 3nm @ 30KV（BSE） |
1.0nm@30KV(SE） 3.0nm@1KV(SE） 2.5nm@30KV(BSE） |
| 倍率 | 8x〜300000x負の真の倍率 | 8x〜800000x負の真の倍率 | 6x〜1000000x負の真の倍率 |
| 電子銃 | プレセンタリングされたタングステンフィラメントカートリッジ | ショットキーフィールドエミッションガン | ショットキーフィールドエミッションガン |
| 電圧 | 加速電圧0〜30KV、連続調整可能、調整ステップ100V @ 0-10Kv、1KV @ 10-30KV | ||
| クイックビュー | ワンキークイックビュー画像機能 | 該当なし | 該当なし |
| レンズシステム | 3レベル電磁テーパーレンズ | マルチレベル電磁テーパーレンズ | |
| 絞り | 3モリブデン対物レンズの開口部、真空システムの外側で調整可能、開口部を変更するために対物レンズを分解する必要はありません | ||
| 真空システム | 1ターボ分子ポンプ 1メカニカルポンプ サンプルルームバキューム>2.6E-3Pa 電子銃室の真空>2.6E-3Pa 全自動真空制御 バキュームインターロック機能 オプションモデル：A63.7069-LV 1ターボ分子ポンプ 2メカニカルポンプ サンプルルームバキューム>2.6E-3Pa 電子銃室の真空>2.6E-3Pa 全自動真空制御 バキュームインターロック機能 低真空範囲10〜270Pa、90秒でのクイックスイッチの場合BSE（LV）の場合 |
1イオンポンプセット 1ターボ分子ポンプ 1メカニカルポンプ サンプルルームバキューム>6E-4Pa 電子銃室の真空>2E-7Pa 全自動真空制御 バキュームインターロック機能 |
1スパッタイオンポンプ 1ゲッターイオン化合物ポンプ 1ターボ分子ポンプ 1メカニカルポンプ サンプルルームバキューム>6E-4Pa 電子銃室の真空>2E-7Pa 全自動真空制御 バキュームインターロック機能 |
| 検出器 | SE：高真空二次電子検出器（検出器保護付き） | SE：高真空二次電子検出器（検出器保護付き） | SE：高真空二次電子検出器（検出器保護付き） |
| BSE：半導体4セグメンテーション 後方散乱検出器 オプションモデル：A63.7069-LV BSE（LV）：半導体4セグメンテーション 後方散乱検出器 |
オプション | オプション | |
| CCD：赤外線CCDカメラ | CCD：赤外線CCDカメラ | CCD：赤外線CCDカメラ | |
| ポートを拡張 | 2サンプルルームのポートを拡張する EDS、BSD、WDSなど。 |
サンプルルームの4つの拡張ポート BSE、EDS、BSD、WDSなど。 |
サンプルルームの4つの拡張ポート BSE、EDS、BSD、WDSなど。 |
| 標本段階 | 5軸ステージ、4自動+1マニュアルコントロール 旅行範囲： X = 70mm、Y = 50mm、Z = 45mm、 R = 360°、T = -5°〜+ 90°（手動） タッチアラート＆ストップ機能 |
5軸自動 真ん中ステージ 旅行範囲： X = 80mm、Y = 50mm、Z = 30mm、 R = 360°、T = -5°〜+70° タッチアラート＆ストップ機能 オプションモデル： A63.7080-M5軸マニュアルステージ A63.7080-L5軸自動 大きいステージ |
5軸自動 大きいステージ 旅行範囲： X = 150mm、Y = 150mm、Z = 60mm、 R = 360°、T = -5°〜+70° タッチアラート＆ストップ機能 |
| 最大標本 | 直径175mm、高さ35mm | 直径175mm、高さ20mm | 直径340mm、高さ50mm |
| 画像システム | リアル静止画最大解像度4096x4096ピクセル、 画像ファイル形式：BMP（デフォルト）、GIF、JPG、PNG、TIF |
リアル静止画最大解像度16384x16384ピクセル、 画像ファイル形式：TIF（デフォルト）、BMP、GIF、JPG、PNG ビデオ：自動記録デジタル.AVIビデオ |
リアル静止画最大解像度16384x16384ピクセル、 画像ファイル形式：TIF（デフォルト）、BMP、GIF、JPG、PNG ビデオ：自動記録デジタル.AVIビデオ |
| コンピューターソフトウェア | PC Work Station Win 10システム、SEM顕微鏡全体の動作を完全に制御するプロフェッショナルな画像分析ソフトウェア、Inter I5以上のコンピューター仕様3.2GHz、4Gメモリ、24 "IPS LCDモニター、500Gハードディスク、マウス、キーボード | ||
| 写真ディスプレイ | 画像レベルはリッチで細心の注意を払っており、リアルタイムの倍率、定規、電圧、灰色の曲線を示しています | ||
| 寸法 ＆ 重さ |
顕微鏡本体800x800x1850mm 作業台1340x850x740mm 総重量400Kg |
顕微鏡本体800x800x1480mm 作業台1340x850x740mm 総重量450Kg |
顕微鏡本体1000x1000x1730mm 作業台1330x850x740mm 総重量550Kg |
| オプションのアクセサリ | |||
| オプションのアクセサリ | A50.7002EDSエネルギー分散型X線分光計 A50.7011イオンスパッタリングコーター |
A50.7001BSE後方散乱電子検出器 A50.7002EDSエネルギー分散型X線分光計 A50.7011イオンスパッタリングコーター A50.7030コントロールパネルの電動化 |
A50.7001BSE後方散乱電子検出器 A50.7002EDSエネルギー分散型X線分光計 A50.7011イオンスパッタリングコーター A50.7030コントロールパネルの電動化 |
| A50.7001 | BSE検出器 | 半導体4セグメント後方散乱検出器; 成分A+B、形態情報ABで利用可能。 利用可能なサンプルは、金をスパッタリングせずに観察します。 グレースケールマップから直接不純物と分布を観察できます。 |
| A50.7002 | EDS（X線検出器） | 軽元素分析のために低エネルギーX線透過を最適化する窒化ケイ素（Si3N4）ウィンドウ。 優れた解像度とその高度な低ノイズ電子機器は、卓越したスループットパフォーマンスを提供します。 小さなフットプリントは、理想的な形状とAata収集条件を保証する柔軟性を提供します。 検出器には30mm2のチップが含まれています。 |
| A50.7003 | EBSD（電子ビーム後方散乱回折） | ユーザーは、材料の結晶方位、結晶相、微細組織、および関連する材料の性能などを分析できます。 EBSDカメラ設定の自動最適化 データ収集中に、インタラクティブなリアルタイム分析を実行して、最大の情報を取得します すべてのデータは、いつでも表示できるタイムタグでブランド化されています 高解像度1392x1040 x 12 スキャンとインデックス速度：198ポイント/秒、Niを標準として、2〜5nAの条件下で、インデックス率が99％以上になるようにします。 100pAで5kVの低ビーム電流と低電圧の条件下でうまく機能します 方位測定精度：0.1度以上 トリプレックスインデックスシステムの使用：シングルバンド定義に依存する必要がなく、パターン品質の低いインデックスを簡単に作成できます 専用データベース：電子線回折により得られたEBSD特殊データベース：>400相構造 インデックス機能：7つの結晶系のすべての結晶材料を自動的にインデックスできます。 高度なオプションには、弾性剛性（Elastic Stiffness）、テイラー（Taylor）係数、シュミット（Schmid）係数などの計算が含まれます。 |
| A50.7010 | コーティング機 | ガラス保護シェル：∮250mm;高さ340mm; ガラス加工室： ∮88mm;高さ140mm、∮88mm;高さ57mm; 標本ステージサイズ：∮40mm（最大）; 真空システム：分子ポンプおよび機械式ポンプ; 真空検出：ピラニゲージ; 真空：2 X10-3Paより良い; 真空保護：マイクロスケールインフレーションバルブで20 Pa; 標本の動き：平面回転、傾斜歳差運動。 |
| A50.7011 | イオンスパッタリングコーター | ガラス加工チャンバー：∮100mm;高さ130mm; 標本ステージサイズ：∮40mm（6つの標本カップを保持）; ゴールデンターゲットサイズ：∮58mm* 0.12mm（厚さ）; 真空検出：ピラニゲージ; 真空保護：マイクロスケールインフレーションバルブで20 Pa; 中程度のガス：アルゴンまたはアルゴンガスの特別な空気入口およびマイクロスケールで調整するガスを備えた空気。 |
| A50.7012 | アルゴンイオンスパッタリングコーター | サンプルは高真空下でカーボンと金でメッキされました。 回転可能なサンプルテーブル、均一コーティング、粒子サイズ約3-5nm; ターゲット材料の選択なし、サンプルへの損傷なし。 イオン洗浄とイオン薄化の機能を実現できます。 |
| A50.7013 | 臨界点乾燥機 | 内径：82mm、内径：82mm; 圧力範囲：0-2000psi; 温度範囲：0°-50°C（32°-122°F） |
| A50.7014 | 電子ビームリソグラフィー | 走査型電子顕微鏡に基づいて、新しいナノ露光システムが開発されました。 変更は、ナノスケールの線幅画像を作成するためのすべてのSem関数を保持しています。 マイクロエレクトロニクスデバイス、オプトエレクトロニクスデバイス、クォンタンデバイス、マイクロエレクトロニクスシステムの研究開発に広く適用されている修正Eblシステム。 |
| A63.7080、A63.7081標準の消耗品の衣装 | |||
| 1 | 電界放出フィラメント | 顕微鏡にインストール | 1個 |
| 2 | サンプルカップ | 直径13mm | 5個 |
| 3 | サンプルカップ | 直径32mm | 5個 |
| 4 | カーボン両面導電性テープ | 6mm | 1パッケージ |
| 5 | 真空グリース | 10個 | |
| 6 | 毛のない布 | 1チューブ | |
| 7 | 研磨ペースト | 1個 | |
| 8 | サンプルボックス | 2バッグ | |
| 9 | 綿棒 | 1個 | |
| 10 | オイルミストフィルター | 1個 | |
| A63.7080、A63.7081標準ツールおよび部品の装備 | |||
| 1 | インナーヘキサゴンスパナ | 1.5mm〜10mm | 1セット |
| 2 | ピンセット | 長さ100-120mm | 1個 |
| 3 | マイナスドライバー | 2 * 50mm、2 * 125mm | 2個 |
| 4 | クロスドライバー | 2 * 125mmm | 1個 |
| 5 | ベントパイプを清掃する | 直径10/6.5mm（外径/内径） | 5メートル |
| 6 | ベント減圧弁 | 出力圧力0-0.6MPa | 1個 |
| 7 | 内部ベーキング電源 | 0-3A DC | 2個 |
| 8 | UPS電源 | 10kVA | 2個 |
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