光学顕微鏡の巨大なサンプル段階をスキャンする高リゾリューションのデジタル
型式番号:A63.7069
原産地:中国
最低順序量:1 pc
支払の言葉:T / T、ウエストユニオン、Paypal
供給の能力:5000 PC 月
受渡し時間:5 〜 20 日
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Beijing Beijing China
住所：
F-1501 Wanda の広場、第 18 Shijingshan 道、北京 100043、中国
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内 1 時間
製品詳細
会社概要
製品詳細
| A63.7069ソフトウェア主関数 | ||
| 高圧規則 | 垂直線スキャン | 潜在的な転位の規則 |
| フィラメントの現在の規制 | コンデンサーの調節 | 多スケールの測定 |
| 非点収差の調節 | 中央調節に電気 | 自動明るさ/対照 |
| 明るさの調節 | 対物レンズの調節 | 自動焦点 |
| 対照調節 | 写真の下検分 | 自動乱視の除去 |
| 倍率調整 | 活動的な定規 | 自動フィラメントの調節 |
| 選択されたエリアの走査方式 | 4スキャン ニング スピードの設定 | 変数の管理 |
| ポイント走査方式 | 対物レンズの逆転 | イメージのスナップショット、イメージの凍結 |
| 表面のスキャン | コンデンサーの逆転 | 1つの主速い眺め |
| 水平線スキャン | 電気回転調節 | |
| SEM | A63.7069 | A63.7080 | A63.7081 |
| 決断 | 3nm@30KV （SE） 6nm@30KV （BSE） |
1.5nm@30KV （SE） 3nm@30KV （BSE） |
1.0nm@30KV （SE） 3.0nm@1KV （SE） 2.5nm@30KV （BSE） |
| 拡大 | 8x~300000x否定真理の拡大 | 8x~800000x否定真理の拡大 | 6x~1000000x否定真理の拡大 |
| 電子銃 | 前集中させたタングステンのフィラメントのカートリッジ | ショットキー分野放出銃 | ショットキー分野放出銃 |
| 電圧 | 加速の電圧0~30KVの連続的な調節可能は、ステップ100V@0-10Kv、1KV@10-30KVを調節する | ||
| 速い眺め | 1つの主速い眺めのイメージ機能 | N/A | N/A |
| レンズ系 | 3レベルの電磁石の先を細くされたレンズ | 複数のレベルの電磁石の先を細くされたレンズ | |
| 開き | 3つのモリブデンの客観的な開き、真空システムの調節可能な外側は、必要性開きを変えるために目的を分解しない | ||
| 真空システム | ターボ1つの分子ポンプ 1つの機械ポンプ サンプル部屋Vacuum>2.6E-3Pa 電子銃部屋Vacuum>2.6E-3Pa 十分に自動真空制御 真空の連結機能 任意モデル:A63.7069-LV ターボ1つの分子ポンプ 2つの機械ポンプ サンプル部屋Vacuum>2.6E-3Pa 電子銃部屋Vacuum>2.6E-3Pa 十分に自動真空制御 真空の連結機能 BSE （LV）のための90秒の速いスイッチのための低い真空の範囲10~270Pa |
1組のイオン ポンプ セット ターボ1つの分子ポンプ 1つの機械ポンプ サンプル部屋Vacuum>6E-4Pa 電子銃部屋Vacuum>2E-7 Pa 十分に自動真空制御 真空の連結機能 |
1スパッタ イオン ポンプを 1つのゲッター イオン混合物ポンプ ターボ1つの分子ポンプ 1つの機械ポンプ サンプル部屋Vacuum>6E-4Pa 電子銃部屋Vacuum>2E-7 Pa 十分に自動真空制御 真空の連結機能 |
| 探知器 | SE:高真空の二次電子の探知器（探知器の保護と） | SE:高真空の二次電子の探知器（探知器の保護と） | SE:高真空の二次電子の探知器（探知器の保護と） |
| BSE: 半導体4の細分化 背部分散の探知器 任意モデル:A63.7069-LV BSE （LV）: 半導体4の細分化 背部分散の探知器 |
任意 | 任意 | |
| CCD:赤外線CCDのカメラ | CCD:赤外線CCDのカメラ | CCD:赤外線CCDのカメラ | |
| 左舷を伸ばしなさい | 2サンプル部屋の港をのための伸ばしなさい EDS、BSD、WDS等。 |
4サンプル部屋の港をのための伸ばしなさい BSE、EDS、BSD、WDS等。 |
4サンプル部屋の港をのための伸ばしなさい BSE、EDS、BSD、WDS等。 |
| 標本の段階 | 5本の斧の段階、4自動+1手動制御 旅行範囲: X=70mm、Y=50mm、Z=45mm、 R=360°、T=-5°~+90° （マニュアル） 接触警報及び停止機能 |
5本の斧の自動中間の段階 旅行範囲: X=80mm、Y=50mm、Z=30mm、 R=360°、T=-5°~+70° 接触警報及び停止機能 任意モデル: A63.7080-M 5は手動段階を打ち切る A63.7080-L 5は自動大きい段階を打ち切る |
5本の斧の自動大きい段階 旅行範囲: X=150mm、Y=150mm、Z=60mm、 R=360°、T=-5°~+70° 接触警報及び停止機能 |
| 最高の標本 | Dia.175mmの高さ35mm | Dia.175mmの高さ20mm | Dia.340mmの高さ50mm |
| イメージ システム | 実質の酒造機のイメージの最高の決断4096x4096ピクセル、 イメージ ファイルのフォーマット:BMP （デフォルト）、GIFのJPG、PNG、TIF |
実質の酒造機のイメージの最高の決断16384x16384ピクセル、 イメージ ファイルのフォーマット:TIF （デフォルト）、BMP、GIFのJPG、PNG ビデオ:デジタル自動記録的な.AVIビデオ |
実質の酒造機のイメージの最高の決断16384x16384ピクセル、 イメージ ファイルのフォーマット:TIF （デフォルト）、BMP、GIFのJPG、PNG ビデオ:デジタル自動記録的な.AVIビデオ |
| コンピュータ及びソフトウェア | 全SEMの顕微鏡操作を、コンピュータ指定より少なくより内側I5 3.2GHz完全な制御の専門のイメージ分析 ソフトウェアが付いているPCのワーク・ステーションの勝利10システム、4G記憶、24" IPS LCDのモニター、500Gハード ディスク、マウス、キーボード | ||
| 写真の表示 | イメージのレベルは豊富、細心であり、実時間拡大を、定規、電圧、灰色のカーブ示す | ||
| 次元 及び重量 |
顕微鏡ボディ800x800x1850mm ワーク テーブル1340x850x740mm 総重量400Kg |
顕微鏡ボディ800x800x1480mm ワーク テーブル1340x850x740mm 総重量450Kg |
顕微鏡ボディ1000x1000x1730mm ワーク テーブル1330x850x740mm 総重量550Kg |
| 任意付属品 | |||
| 任意付属品 | A50.7002 EDSエネルギー分散X線スペクトロメータ A50.7011イオン放出させるコーター |
電子探知器を分散させるA50.7001 BSEの背部 A50.7002 EDSエネルギー分散X線スペクトロメータ A50.7011イオン放出させるコーター A50.7030はコントロール パネルにモーターを備える |
電子探知器を分散させるA50.7001 BSEの背部 A50.7002 EDSエネルギー分散X線スペクトロメータ A50.7011イオン放出させるコーター A50.7030はコントロール パネルにモーターを備える |
| A50.7001 | BSEの探知器 | 半導体4の区分の背部分散の探知器; 原料A+Bの形態情報A-Bで利用できる; 利用できるサンプルは放出させる金なしで観察する; 利用できるグレースケールの地図からの不純物そして配分を直接観察しなさい。 |
| A50.7002 | EDS （X光線の探知器） | 軽い要素の分析のための低負荷のX線伝達を最大限に活用する窒化珪素（Si3N4）の窓; 優秀な決断および高度の低雑音の電子工学顕著な効率の性能を提供するため; 小さい足跡は理想的な幾何学およびAataのコレクションの状態を保障する柔軟性を提供する; 探知器は30mm2破片を含んでいる。 |
| A50.7003 | EBSD （電子ビームのBackscattered回折） | ユーザーは材料の分析の水晶オリエンテーション、水晶段階およびマイクロ質および関連材料の性能、等できた。 EBSDのカメラの設定の自動最適化 データ収集の間に、最高情報を得るために相互実時間分析をしなさい すべてのデータはいつでも見ることができる時間の札と決め付けられた、 高リゾリューション1392 x 1040 x12 スキャンおよび索引の速度:2~5nAの状態の下の標準としてNIとの198ポイント/秒、それは索引率≥99%を保障できる; よの仕事100pAの5kVの低いビーム現在および低電圧の状態の下で オリエンテーションの測定の正確さ:よくより0.1度 triplex索引システムを使用して:必要性無し単一バンド定義、悪いパターン質の容易なインデクシングに頼るため 熱心なデータベース:電子回折によって得られるEBSDの特別なデータベース:>400段階の構造 能力を指示しなさい:それは自動的に7つの水晶システムのすべての水晶材料を指示できる。 高度の選択は伸縮性がある剛さ（伸縮性がある剛さ）、テイラー（テイラー）の要因、シュミツト（Schmid）の要因を等計算することを含んでいる。 |
| A50.7010 | コータ | ガラス保護の貝:∮250mm;高い340mm; ガラス処理の部屋: ∮88mm;140mmの最高、∮88mm;高い57mm; 標本の段階のサイズ:∮40mm （最高）; 真空システム:moleculaポンプおよび機械ポンプ; 真空の検出:Piraniのゲージ; 真空:よくより2 x 10-3 Pa; 真空の保護:マイクロスケールのインフレーション弁との20 Pa; 標本の動き:平らな回転、傾きの歳差運動。 |
| A50.7011 | イオン放出させるコーター | ガラス処理の部屋:∮100mm;高い130mm; 標本の段階のサイズ:∮40mm （把握6標本のコップ）; 金ターゲット サイズ:∮58mm*0.12mm （厚さ）; 真空の検出:Piraniのゲージ; 真空の保護:マイクロスケールのインフレーション弁との20 Pa; 中型のガス:アルゴンのガスの特別な空気入口が付いているアルゴンかマイクロスケールで調整する空気およびガス。 |
| A50.7012 | アルゴン イオン放出させるコーター | サンプルは高真空の下のカーボンそして金とめっきされた; 回転サンプル テーブル、均一コーティング、3-5nmについての粒度; 目標資料の選択無し、サンプルへの損傷無し; 薄くなるイオン クリーニングおよびイオンの機能は実現することができる。 |
| A50.7013 | 屈曲点のドライヤー | 内部の直径:82mmの内部の長さ:82mm; 圧力範囲:0-2000psi; 温度較差:0°-50° C （F） 32°-122° |
| A50.7014 | 電子ビームリソグラフィ | 走査型電子顕微鏡に基づいて、新しいナノ露出システムは開発された; ModificatonはNanoscaleの線幅のイメージ作るためのすべてのSem機能を保った; マイクロエレクトロニック装置、光電子工学装置、Quantun装置、マイクロエレクトロニクス システムR & Dに適用されるModificated EblシステムWidly。 |
| A63.7069標準的な消耗品の用品類 | |||
| 1 | タングステンのフィラメント | 前集中させる、輸入される | 1箱（5 PC） |
| 2 | サンプル コップ | Dia.13mm | 5 PC |
| 3 | サンプル コップ | Dia.32mm | 5 PC |
| 4 | カーボン両面の伝導性テープ | 6mm | 1個のパッケージ |
| 5 | 真空のグリース | 10 PC | |
| 6 | 毛のない布 | 1つの管 | |
| 7 | 磨くのり | 1 PC | |
| 8 | サンプル箱 | 2つの袋 | |
| 9 | 綿棒 | 1 PC | |
| 10 | オイルの霧フィルター | 1 PC | |
| A63.7069標準的な用具及び部品は準備する | |||
| 1 | 内部の六角形のスパナー | 1.5mm~10mm | 1セット |
| 2 | ピンセット | 長さ100-120mm | 1 PC |
| 3 | 細長かったスクリュードライバー | 2*50mm、2*125mm | 2 PC |
| 4 | 十字のスクリュードライバー | 2*125mmm | 1 PC |
| 5 | ダイヤフラムの除去剤 | 1 PC | |
| 6 | クリーニングの棒 | 1 PC | |
| 7 | フィラメントの調節用具 | 1 PC | |
| 8 | ガスケットを調節するフィラメント | 3 PC | |
| 9 | 管の抽出器 | 1 PC | |
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