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ペロブスカイト薄膜電池産業におけるマグネトロン スパッタリング成膜
アプリケーション
| アプリケーション | 特定の目的 | 材料の種類 |
| ペロブスカイト薄膜電池 | 透明導電層 | ZnO:Al |
動作原理
マグネトロンスパッタリングは、磁場によって電子の運動経路を拘束および拡張し、運動を変化させることです
電子の方向を変え、作動ガスのイオン化率を高め、電子のエネルギーを有効に利用します。
マグネトロン スパッタリングには、次のような特徴があります。成膜速度が速く、成膜効率が高く、成膜に適しています。
工業生産における大規模なアプリケーション;基板温度が低く、プラスチックのコーティングに適しています。
その他の耐熱基板。調製されたフィルムの高純度、優れたコンパクト性、優れたフィルム均一性、および強度
フィルム基板凝集;金属、合金、酸化物、その他のフィルムを作成できます。無汚染。
特徴
| モデル | MSC-PFB-X—X |
| コーティングタイプ | 金属膜、金属酸化物、AlNなどの各種誘電体膜 |
| 塗装温度範囲 | 常温～500℃ |
| コーティング真空チャンバーサイズ | 700mm*750mm*700mm (カスタマイズ可能) |
| バックグラウンド真空 | < 5×10-7mbar |
| コーティングの厚さ | ≧10nm |
| 厚み制御精度 |
≦±3% |
| 最大コーティングサイズ | ≥ 100mm (カスタマイズ可能) |
| 膜厚均一性 | ≦±0.5% |
| 基板キャリア | 遊星回転機構付 |
| 対象物質 | 4×4インチ（4インチ以下対応） |
| 電源 | DC、パルス、RF、IF、バイアスなどの電源はオプションです |
| プロセスガス |
Ar、N2、O2 |
| 注: 利用できるカスタマイズされた生産。 | |
コーティングサンプル
プロセスステップ
→コーティング用の基板を真空チャンバーに入れます。
→おおまかに真空引き。
→分子ポンプをオンにし、最高速度で真空にし、公転と自転をオンにします。
→ 温度が目標に達するまで真空チャンバーを加熱します。
→一定の温度制御を実装します。
→きれいな要素;
→回転して原点に戻る。
→ プロセス要件に従ってフィルムをコーティングします。
→ 温度を下げ、コーティング後にポンプ アセンブリを停止します。
→自動運転が終了したら作業を停止します。
私たちの利点
私たちはメーカーです。
成熟したプロセス。
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