
属性 | 値 |
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適用範囲 | 工業用 |
タイプ | 電気保持炉 |
用途 | セラミック乾燥 |
雰囲気 | 窒素 |
有効チャンバー寸法 | 600*600*600mm(W*H*D) |
定格温度 | 350℃ |
最高温度 | 500℃ |
輸送パッケージ | 木製パッケージ |
仕様 | 1350*1750*1950mm(W*H*D) |
商標 | Chitherm |
原産地 | 中国 |
HSコード | 8514101000 |
供給能力 | 50セット/年 |
カスタマイズ | 利用可能 |
認証 | ISO |
設置スタイル | 垂直 |
HRF216-05N 窒素オーブンは、優れた温度均一性(±5℃)を提供し、電子部品やセラミック基板のバインダー焼成(BBO)プロセスなど、特殊な工業用途向けに完全にカスタマイズ可能です。
項目 | 注記 | 数量 |
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基本構成 | 乾燥機 | 1個 |
証明書 | 乾燥機および主要コンポーネント | 1セット |
技術文書 | マニュアル、コンポーネント仕様 | 1セット |
発熱体 | ステンレス鋼ヒーター | 1セット |
熱電対 | WATLOW/THERMOWAY、K型 | 1個 |
温度コントローラー | 1セット | |
モニター | タッチスクリーン | 1セット |
SSR(スペア) | 1個 |
環境条件: 温度0~40℃、湿度≤80%RH、腐食性ガスや強い気流の乱れがないこと
プロセスエア: 純度99.999%の窒素、0.2~0.4Mpaの圧力(消費量:10m³/h)
換気: ポンプシステムへの非接触アクセス(>15m³/hの容量)
接地: 300Kg/m²以上の耐荷重と最小限の振動を備えた水平面
設置スペース: 最小2000×3000×3000mm(W×H×D)、面積>6m²