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MBF100-10型化学気相成長(CVD)炉は、電子製品および材料処理の中温熱処理用に設計されています。この工業グレードの炉は、窒素、ヘリウム、アセチレン、水素雰囲気下での気相反応プロセス、および保護雰囲気下での焼結プロセスをサポートしています。リアルタイムのコンピュータモニタリングシステムを搭載しており、研究機関や材料プロセス試験用途に最適です。
属性 | 値 |
---|---|
製品モデル | MBF100-10 |
定格温度 | 750℃ |
最高温度 | 1000℃ |
加熱ゾーン寸法 | 770 × 770 × 300 mm (W × D × H) |
有効寸法 | 640 × 640 × 250 mm (W × D × H) |
発熱体 | FECセラミックファイバーヒーター |
温度安定性 | PID自動調整で±1℃ |
制御方法 | タッチスクリーン + PLC集中制御 |
重量 | 約500kg |
炉の寸法 | 1200×1200×1500mm (W×H×D) |
項目 | 注記 | 数量 |
---|---|---|
炉本体 | 1 | |
質量流量コントローラー(MFC) | YamatakeまたはHORIBA | 4 |
タッチスクリーン | 1 | |
温度コントローラー | 1 | |
FECヒーター | 1 | |
石英ライナー | 1 | |
技術文書 | 仕様書およびコンポーネントドキュメント | 1セット |