鄭州の兄弟の炉Co.、株式会社

We Master Heat ! | 200 ~ 2200℃

Manufacturer from China
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6 年
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1200℃真空管の炉血しょうは真空ポンプが付いているLPCVDの炉を高めました

1200℃真空管の炉血しょうは真空ポンプが付いているLPCVDの炉を高めました
  • 1200℃真空管の炉血しょうは真空ポンプが付いているLPCVDの炉を高めました
製品の詳細
1200℃血しょうは真空ポンプが付いているLPCVDの炉を高めた 理性的なLPCVDの紹介: PECVDシステムは従来のCVDの反作用の温度を減らすように設計されている。それはガスの反応をイオン化するために従来のCVDの前のRFの誘導装置を取付けた従って血しょうは発生する。血しょうの高い活動は反作用...
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