名前	PVDコーティングタンタル目標
グレード	RO5200 RO5400 RO5252 RO5255
純度	≥99.95%
密度	16.68g/cm³
表面	機械加工された表面,穴,傷,汚れ,傷,その他の欠陥がない
スタンダード	ASTM B708
形状	フラットターゲット,回転ターゲット,特別な形状のカスタマイズ

PVDコーティングタンタルミストの化学含有量

グレード	主要な要素		汚れの含有量は%未満
	タ	Nb	フェ	そうだ	ニ	W	モー	ティ	Nb	オー	C について	H	N
タ1	待って	ほら	0.005	0.005	0.002	0.01	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
タ2	待って	ほら	0.03	0.02	0.005	0.04	0.03	0.005	0.1	0.03	0.01	0.0015	0.01
タンb3	待って	<3.5	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	ほら	0.03	0.01	0.0015	0.01
タンb20	待って	17.0 ¥230	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	ほら	0.03	0.01	0.0015	0.01
Ta2.5W	待って		0.005	0.005	0.002	3	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
タ10W	待って		0.005	0.005	0.002	11	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01

PVDタンタルターゲットの特徴:

高度な溶融点
低蒸気圧で
冷たい状態で動作する性能が良い
高化学的安定性
液体金属の腐食に強い耐性
表面酸化フィルムは,大きな介電常数を持っています

適用:

タンタラム標的と銅バック標的は溶接され,その後半導体または光学噴射が行われますそしてタンタル原子は酸化物として基板材料に堆積され,噴射コーティングが得られる.半導体コーティング,光学コーティング,その他の産業で主に使用されます.金属 (Ta) は現在,主に対象材料として物理蒸気堆積 (PVD) を通して壁層を覆い,形成するために使用されています..

顧客の図面に従って処理し,タ棒,プレート,ワイヤー,ホイル,ピッチなどを生産することができます.

詳細の情報のために問い合わせを送ってください.

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