Xi'an Lvneng Purification Technology Co.,Ltd.

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3.0 - 伝達ガスによって絶縁されるサブステーションのための5.0mmの分子篩吸着性KDHF-03

3.0 - 伝達ガスによって絶縁されるサブステーションのための5.0mmの分子篩吸着性KDHF-03
  • 3.0 - 伝達ガスによって絶縁されるサブステーションのための5.0mmの分子篩吸着性KDHF-03
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製品の詳細
高圧伝達ガスによって絶縁されるサブステーションのための範囲3.0-5.0MMの分子篩吸着性KDHF-03 分子篩の吸着剤の製品の説明 高い化学安定性および優秀な絶縁材の性能、SF6が原因でずっと80年代のさまざまな電気機器のための絶縁は媒体として広く利用されている国際的に。但し、SF6はSOF2...
製品詳細図 →