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6 年
チタンターゲット シリコンスプッティングターゲット Gr5 Gr7 Pvdコーティングマシン
"ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます
金属チタンからチタン発射標的へ
タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料として製造したチタン製品で,チタンフィルムをスプートリングで生産するために使用されます.金属チタン鋳造方法と粉末金属工法でチタン発射標的を製造する2つの方法があります..
鋳造: ある 割合 の 原材料 を 溶かし,溶液 を 鋳型 に 注ぎ込み,金塊 を 形成 し,最後に 噴射 対象 に する 機械 に 加工 する.方法としては,真空で溶かして鋳造する.
粉末 金属 製造: 特定の 割合 の 原材料 を 溶かし,鋳物 に し,粉末 を 粉砕 し,粉末 を 離散 圧縮 し,高温 で シンター に し,標的 を 作る.
製品名:チタンターゲットのスプートリング
材料:純チタン:GR1 GR2
純度 >=99.6%
応用:ハードウェア,装飾,道具,陶器,ゴルフ,その他のコーティング産業
サイズ:
丸いスプッティング対象: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35およびその他の特定のサイズ.
チューブスプッターターゲットは: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm,その他の特定のサイズ.
プレート・スプートリング・ターゲット:T6-40×W60--800×L600--2000mm その他の特定のサイズ
顧客ニーズに応じて異なる比率で合金標的をカスタマイズすることができます
高純度チタン・スプッターターゲットは
| 製品名 | PVDコーティングマシン用のチタンスプッティングターゲット |
| グレード |
チタン (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7,GR12) 合金標的:Ti-Al,Ti-Cr,Ti-Zrなど 他の材料:クロム,ジルコニウム,銅,タンプスタムなど |
| 原産地 | バオジ市,山西省,ヒナ |
| チタン含有量 | ≥99.5 (%) |
| 不純度含有量 | <0.04 (%) |
| 密度 | 4.51 または 4.50 g/cm3 |
| スタンダード | ASTM B348,ASTM B381 |
|
サイズ |
1丸い標的: Ø30~2000mm,厚さ3.0~300mm 2プレートターゲー 長さ200~500mm 幅100~230mm 厚さ3~40mm 3ターゲット:直径30~200mm 厚さ5~20mm 長さ500~2000mm 4パーソナライズされている |
| テクニック | 鋳造およびCNC加工 |
| 適用する | 半導体分離 フィルムコーティング材料 ストレージ電極コーティング スプッターコーティング 表面コーティング グラスコーティング産業 |
チタン・スプートリング標的の基本要求事項:
一般的に,噴射対象が主な要件を満たしているか否かを測定する際には,以下の指標が考慮されます.
純度: 純度 は 噴射 フィルム の 性能 に 大きな 影響 を 及ぼし ます.例えば,チタン ターゲットを 例 に 挙げ て ください.純度 が 高ければ高いほど 耐腐蝕 性 が 向上 し ます.スプッターフィルムの電気的および光学的特性.
不浄物含有量:標的固体内の不浄物と,孔の中の酸素と水蒸気は,沉着膜の主な汚染源である.異なる標的材料には,不純物含有量に対する要求が異なります.
密度: 標的の密度は,スプッティング速度に影響するだけでなく,フィルムの電気的および光学的な特性に影響します. したがって,標的固体の孔隙を減らすため,スプッターフィルムの性能を向上させるため標的に求められるのは,通常,高密度である.
粒の大きさと粒の分布:同じ標的では,細粒粒の標的のスプッティング速度は粗粒粒の標的よりも速い.粒子の大きさの差が小さいほど (均等な分布)対象のスプッティング堆積膜の厚さが均一になるほど
化学的要件
| N | C について | H | フェ | オー | アール | V | Pd | モー | ニ | ティ | |
| Gr1 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.20 | 0.18 | / | / | / | / | / | バール |
| Gr2 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | / | / | バール |
| Gr5 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.40 | 0.20 | 5.5〜675 | 3.5~45 | / | / | / | バール |
| Gr7 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | 0.12~025 | / | / | バール |
| Gr9 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.25 | 0.15 | 2.5~35 | 2.0~30 | / | / | / | バール |
| Gr12 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | 0.2~04 | 0.6~09 | バール |
品質保証
A.ASTM,AMS,ASMEなどの世界的に認められた標準に従って.第三者の検査報告を提供.ISO品質管理システム.
B. 表面の質をチェックするための視覚検査,欠陥,黒点,その他の欠陥がないことを保証する.
C. 化学組成 すべての化学成分が顧客の要求に応えるようにする.
D. 機械性能試験 配送前には,すべてのチタン製品に満足のいく機械特性があることを確認する.
材料:
1) Ti/Al合金目標 (67:33,50%:50%
2) W/Ti合金目標 (90:10wt%),
3) Ni/V合金目標 (93:7, wt%)
4) Ni/Cr合金目標 (80:2070歳30, wt%),
5) アル/Cr合金目標 (70:30,50%:50%
6) Nb/Zr合金目標 (97:3,90体重10%)
7) Si/Al合金目標 (90:1095: ほら598: ほら270歳30, wt%)
8) Zn/Al合金標的
9) 高純度クロム目標 (99.95%,99.995%)
10) アル/Cr合金目標 (70:3050: ほら5067: どういうこと?33% で
11) Ni/Cu合金目標 (70:3080歳20, wt%)
12) アル・アンド合金目標 (98:2wt%)
13) Mo/Nb合金目標 (90:10, wt%)
14) TiAlSi合金目標 (Ti/Al/Si=30/60/10,33/67,40/50/10,wt%および%)
15)CrAlSi合金目標 (Cr/Al/Si=30/60/10,wt%および%)
梱包
アニウム材料の歯科インプラント用ディスク/ディスク/ブロック部品
パッケージの詳細: 試験を受けた後,合格製品は,木箱に PEパックで梱包されます.
衝突防止のためですし 特定のニーズに応えることもできます
スプッティング・ターゲットのパッケージは 非常にプロフェッショナルで 慎重で安全です
タイタンは,その組成と性質に基づいて様々なグレードに分類される.グレード1 (Gr1) は商業的に純粋なチタンであり,優れた耐腐蝕性および高柔性で知られています.グレード2 (Gr2) も商業的に純粋だが,強度が少し高い, より幅広い用途に適しています.Ti-6Al-4Vとしても知られるグレード5 (Gr5) は,アルミニウムとバナジウムを含む合金で,強度と重量比が優れています.ストレス下での高性能を要求するアプリケーションに理想的です.
チアル合金にはチタンとアルミニウムが組み合わさり,硬さと熱安定性が向上します.耐磨性 と 高温 の 性能 を 求め て いる コーティング に 特に 価値 ある もの ですこれらのチタン品類と合金類のユニークな特性により,様々なPVDアプリケーションに有利な選択になります.コーティングの質が最終製品の性能に直接影響する場合.
発射対象は PVD コーティングプロセス中に 高速の電荷粒子で 爆撃される材料です原子は表面から放出され,基板に堆積されます対象材料の選択は,特定の要求に応じたコーティングのカスタマイゼーションを可能にする結果のフィルムの特性に直接影響します.異なるターゲット材料を選択することでアルミニウム,銅,チタン合金など,製造者は超硬さ,耐磨性,耐腐蝕性を含む異なる特性を持つフィルムを生産することができます.
タイタンのスプッターターゲットの場合,優れた粘着性,低摩擦性,高硬さを示すフィルムを生産する能力が特に有益である.航空宇宙などの産業での応用には不可欠ですGr1, Gr2, Gr5とTiAlチタンターゲットを利用することで,重要な部品の性能と耐久性を向上させるコーティングが作れる.
Gr1,Gr2,Gr5とTiAlチタン噴射標的の使用の利点は 多岐にわたりますGr1とGr2の高耐腐食性により,材料を攻撃的な化学物質や海水にさらす環境に適していますこれらのグレードは,コーティングがその完全性を保ち,底辺の基板を長期にわたって保護することを保証します.
Gr5型チタンターゲットは,特殊な強さで,重量削減が重要な航空宇宙部品などの高ストレスアプリケーションに最適です.高温アプリケーションで優れている耐熱性があり,熱に長期的に晒されたときに分解を防ぐ.これらの利点の組み合わせにより,製造者は特定の運用要求に合わせたコーティングを製造することができます.製品が意図された環境で最適に機能することを保証します.
スプッタリング (sputtering) は,様々な基板に薄膜を形成するために使用される沉着技術である.このプロセスは,標的物質を,典型的にはイオン,標的の表面から原子を放出するこの放出された原子は 薄膜を形成して 基板に堆積しますスプートリング は,厚さ や 組成 を 正確 に 制御 し て 均質 な コーティング を 製造 する 能力 に よっ て,医療 分野 で 好ま れる.
チタンを含む金属標的は,有利な機械的特性,耐腐蝕性,生物互換性により,医療分野において特に価値があります.耐久性/重量比と人間の組織にシームレスに統合する能力のため,医療用に使用されています..
医学界ではチタンは例外的な材料です 主に生体適合性があるからです骨科の義肢や歯科用具などの長期のインプラントに最適ですさらに,チタンの耐腐蝕性は,人間の体内でしばしば見られる厳しい環境でもその整合性を維持することを保証します.
噴射標的として使用すると,チタンは,さまざまな医療機器の特定の要件を満たすためにカスタマイズすることができます.このカスタマイゼーションには,純度レベルなどのパラメータを調整する,穀物構造蓄積されたフィルムの性質に直接影響する.
カスタマイズされたチタンスプッターターゲットは,以下を含む様々な医療用途で使用されています.
整形器具:チタンコーティングは整形器具の表面性能を向上させ,生物互換性を向上させ,磨きを軽減します.機械的な重荷に耐えるインプラントでは 極めて重要です.
歯科インプラント: 噴射されたチタンコーティングは,歯科インプラントの骨統合を改善し,周囲の骨組織とのよりよい結合を促進します.
外科用道具:スプッターで塗装することで,外科用道具の硬さと耐腐蝕性を高めることができます.寿命を延長し 繰り返し殺菌サイクルで性能を維持する.
薬剤配送システム:革新的なスプッター技術により,制御された薬剤の放出を促進し,治療の有効性を向上させる超薄膜の開発が可能です.
医療産業が進化するにつれて 噴射技術の役割は 大きくなりつつあります先進 な 材料 や 堆積 方法 に 関する 研究 が 継続 し て いる の は,医学 的 な 応用 の 新しい 可能性 を 開く こと を 約束 し て い ます例えば,ナノテクノロジーを噴射プロセスに組み込むことは,抗菌性と強化された機械的強度を組み合わせた多機能コーティングの開発につながります.
さらに 個別医療がますます重視されているため 患者のニーズに合わせた パーソナライズされたスプッターターゲットの需要が増加しています製造者は,これらの特定の要件を満たすスプッターターゲットを作成するために,先進的な生産方法に投資しています医療機器が最適な結果を提供できるようにする.
タイタン,特にグレード1とグレード2は,生物互換性,強度,軽量性のために医学および生物医学分野で高く評価されています.身体に害を及ぼさないし,アレルギー反応を起こす可能性もないため,医療機器に一般的に使用されます..
| 化学的要件 | |||||||||||
| N | C について | H | フェ | オー | アール | V | Pd | モー | ニ | ティ | |
| Gr1 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.20 | 0.18 | / | / | / | / | / | バール |
| Gr2 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | / | / | バール |
| Gr5 | 0.05 | 0.08 | 0.015 | 0.40 | 0.20 | 5.5〜675 | 3.5~45 | / | / | / | バール |
| Gr7 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | 0.12~025 | / | / | バール |
| Gr12 | 0.03 | 0.08 | 0.015 | 0.30 | 0.25 | / | / | / | 0.2~04 | 0.6~09 | バール |
TiAl合金を含むチタン合金噴射標的は,航空宇宙から電子機器,生物医学に至る産業におけるコーティングアプリケーションに使用される汎用材料です.この材料は強さなどの 特殊な特性を持っています耐腐食性,生物互換性,耐磨性があり,耐久性があり高性能な薄膜を必要とする要求の高いアプリケーションに最適です.タイタンのスプッター標的を選ぶとき合金組成,純度,標的幾何学などの要因は,噴射過程で最適な結果を達成するために考慮する必要があります.