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高品質のチタンターゲット GR2 GR5チタン合金 Ti6Al4V
"ターゲット"という単語は 日常生活で使われる ターゲット材料から由来しますコーティング材料は電子線またはイオン線で爆撃されます発射する材料は"発射対象"と呼ばれます
金属チタンからチタン発射標的へ
タイタンのスプートリングターゲットは,チタン金属を原材料として製造したチタン製品で,チタンフィルムをスプートリングで生産するために使用されます.金属チタン鋳造方法と粉末金属工法でチタン発射標的を製造する2つの方法があります..
鋳造: 特定の 割合 の 原材料 を 溶かし,溶液 を 鋳型 に 注ぎ込み,金塊 を 形成 し,最後に 噴射 対象 に する 機械 に 加工 する.方法としては,真空で溶かして鋳造する.
粉末 金属 製造: 特定の 割合 の 原材料 を 溶かし,鋳物 に し,粉末 を 粉砕 し,粉末 を 離散 圧縮 し,高温 で シンター に し て 標的 を 作る.
製品名:チタンターゲットのスプートリング
材料:純チタン:GR1 GR2
純度 >=99.6%
応用:ハードウェア,装飾,道具,陶器,ゴルフ,その他のコーティング産業
サイズ:
丸いスプッティング対象: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35およびその他の特定のサイズ.
チューブスプッターターゲットは: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm,その他の特定のサイズ.
プレート・スプートリング・ターゲット:T6-40×W60-800×L600-2000mm その他の特定のサイズ
顧客のニーズに応じて異なる比率で合金標的をカスタマイズすることができます
詳細な画像:
材料:
1) Ti/Al合金目標 (67:33,50%:50%
2) W/Ti合金目標 (90:10wt%),
3) Ni/V合金目標 (93:7, wt%)
4) Ni/Cr合金目標 (80:2070歳30, wt%),
5) アル/Cr合金目標 (70:30,50%:50%
6) Nb/Zr合金目標 (97:3,90体重10%)
7) Si/Al合金目標 (90:1095: ほら598: ほら270歳30, wt%)
8) Zn/Al合金標的
9) 高純度クロム目標 (99.95%,99.995%)
10) アル/Cr合金目標 (70:3050: ほら5067: どういうこと?33% で
11) Ni/Cu合金目標 (70:3080歳20, wt%)
12) アル・アンド合金目標 (98:2wt%)
13) Mo/Nb合金目標 (90:10, wt%)
14) TiAlSi合金目標 (Ti/Al/Si=30/60/10,33/67,40/50/10,wt%および%)
15)CrAlSi合金目標 (Cr/Al/Si=30/60/10,wt%および%)