Sichuan Porous Metal Technology Co., Ltd.

シチュアン・ポーラス・メタル・テクノロジー・株式会社

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シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

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シティ:chengdu
省/州:sichuan
国/地域:china
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シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

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モデル番号 :水素フィルト
産地 :徳陽市、中国
最低注文量 :5個
支払条件 :T/T
配達時間 :5~8 営業日
製品名 :水素フィルト
材料 :純 Ti/Ni
生産プロセス :高温シンタリング
厚さ :0.15~2.0mm
毛孔性 :30から40パーセント
処理方法 :レーザー 切断
適用する :AEM/PEM水素生産
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不対称なグラディアントガス拡散層 GDL 高特異表面面積のチタンフェルト/ニッケルフェルト

 

完全に独立した知的財産権を持つAEM水素生産のためのコア材料は Borsemaiによって独立して開発されました
主な調製方法は:

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

 

特徴:


1毛孔の大きさと毛孔度の両方を制御できます.
2グラディアントポースの構造
3特殊面积が大きい
4優れた水とガスの伝送性能
5優れた電気と熱伝導性
6. 高温耐性と熱衝撃耐性
7中程度の腐食耐性
8溶接可能で加工可能

 

仕様のパラメータ

 

パラメータ ユニット チタン粉末フィールス (TPF) ニッケル粉末フェルト (NPF)
材料 / 純チタン 純ニッケル
生産プロセス / 高温シンタリング 高温シンタリング
表面密度 g/cm3 0.6-20 1.2-4. わかった0
表面の荒さ μm ≤30 ≤25
最小開口数 μm 3 から 5 3 から 5
平均孔の大きさ μm 12から20 12から20
毛孔性 % 30〜50 30〜50
圧縮 %2MPa 3から8 5〜10
張力強度 KN/50mm 0.6-20 0.8-25
mm 500から1000 500から1000
処理方法 / レーザー 切断 レーザー 切断
適用する / AEM 水素生産 AEM 水素生産
化学組成 % ティ≥998 Ni+Co≥998
% N ≤ 001 Fe≤0.02
% C≤0.01 C≤0.03
% H≤0.01 S≤0008
% Fe≤0.01 Si≤0.005
% Cl≤003 Cu≤0.001
% Si≤0.01  
% Mn≤0.01  
% Mg≤0.01  
外見 / 1表面はきれいで,銀色灰色の金属光りがあります.
2裂け目や黒い斑点が表示されないように
1表面はきれいで,銀色灰色の金属光りがあります.
2裂け目や黒い斑点が表示されないように

 

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

 

1柔らかく 曲げられる
2大きさと幅が大きい
3表面の荒さも非常に低い

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

 

 

利点:


1接触抵抗を減らすために,ガス拡散層と膜電極の間の接触面を増加させる.
2表面のピークを減らし,膜電極の穴を開けることを防止し,膜電極の寿命を改善します.
3. 不対称な傾斜構造は,水蒸気伝送性能が優れている
4柔軟な構造,良い粘着性,小さな圧縮変形,広い幅,大きな長さ,ランダム

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

適用:


AEMニッケル粉末フェルト拡散層は,ガスの電気化学反応を促進するために使用される.導電層は,触媒層と電極基板を結ぶ層である.それは良い伝導性を有し,効率的に電極基板に電子を転送することができますニッケル粉末のガスの拡散層は,ガスと液体を転送する役割を果たし,ガス拡散性能と液体の透気性が良好です.ニッケル粉末フィルトガスの拡散電極は,大きな表面積と高い触媒活動によって特徴付けられています.触媒の存在により,ガス拡散電極は,低温および低圧でガスの電気化学反応を実現することができます.反応の効率と速度を向上させるさらに,ニッケル粉末フィルトガス拡散電極も安定性や耐腐蝕性があり,複雑な環境で長い間安定して動作することができます.

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

 

PEM 水素生成アノード拡散層 GDL


アノード拡散層は,高潜在的な環境や高酸性環境でO2とH2Oの質量移転に使用され,腐食耐性のあるコーティングが必要です.毛孔型輸送層は,触媒層と二極プレートの間に位置しています水供給,ガス排出,電子輸送の経路として機能し,水電解反応の濃度偏振とオム偏振に直接影響する.毛孔質の輸送層は,水と沈着ガスの拡散と移転を促す豊富な連続性毛孔構造を持つべきである.オームの偏振を減らすために良い導電性がある.アノード側ポロス輸送層は,一般的に高潜在的な酸性環境で耐腐蝕性チタンポロス材料で作られています.接触抵抗と使用寿命を減らすために貴金属コーティングで表面を処理することができます.

 

シンタリングチタン紙2.0mmチフェルトGDLガス拡散層ニッケルフェルト

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