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1 - 10 の結果 tungsten sputtering target から 642 製品
W ワルグスタン ターゲット 稀土の溶融 チタン ワルグスタン 噴射 ターゲット
W ワルフスタン 噴射 航空宇宙 稀土の溶融 ワルフタン噴射 航空宇宙,稀土の溶融,電気光源,化学機器,医療機器,金属機械,溶融機器,石油などに広く使用されている標的 パラメーター オーダーデメリット (OD) ID (mm) 長さ (mm) オーダーメイド...
Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
確認済みサプライヤー
ルオヤン国立大学科学技術公園
放射にターゲット滑らかな表面の抗力が高い放出させる粉末や金のタングステン
タングステン プロダクトGB/T3875-83標準99.95%分はコーティングのためのタングステン ターゲットWディスク タングステンの放出させるターゲットを磨きました 記述: 1. 薄膜材料を作る重要な方法は物理的な蒸気沈殿(PVD)の新しい方法を放出させています。 ターゲットに...
株洲市Jiabangの処理し難い金属Co.、株式会社
確認済みサプライヤー
No.5建物、No.581 Heilong江の道、李玉の工業団地、Tian元地区、株洲市、フーナン、中華人民共和国。
W1 ワルフタン製品 旋回型回線型ワルフタンスプッターターゲット
ターンブラン回転性スプッティング標的 タングスタンターゲットは主に航空宇宙,稀土の溶融,電気光源,化学機器,医療機器,金属機械,溶融機器,石油などに使用されています. パラメーター オーダーデメリット (OD) ID (mm) 長さ (mm) オーダーメイド...
Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
確認済みサプライヤー
ルオヤン国立大学科学技術公園
ヒップ/Cipが付いている微粒子のサイズのタングステンの放出させるターゲット/炉プロセス
タングステンの放出させるターゲット タングステン ターゲット、WTiの放出させるターゲットは、タングステンの放出させるターゲット半導体デバイスの機能転移を実現する酸化膜タングステンのための重要な基質である。タングステン、タングステン ターゲットの高い融点が原因で主に粉末や金によって準備さ...
JINXING MATECH CO LTD
NO.57 KEXUEDADAOの道
マグネトロンの放出させるコーティングのタングステン ディスク タングステン ターゲット タングステンの円形の在庫のための円形のタングステンの放出させるターゲット
マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲット 1. マグネトロンの放出させるコーティングのためのタングステンの放出させるターゲットの記述: タングステンの層はTFT-LCDスクリーンの薄膜のトランジスターの部品である。それらは大画面のフォーマット、非...
Shaanxi Peakrise Metal Co.,Ltd
No.188 Gaoxinの道、Weibin地区の宝鶏市都市、シャンシー、中国
薄膜の企業のための高い純度の合金のタングステンの放出させるターゲット
薄膜の企業のための高い純度のタングステンの放出させるターゲット タングステンの放出させるターゲットに純粋な形態ですべての金属の最も高い融点が（3422℃の6192 ℉）ある。それに最も低い蒸気圧（1650℃の上の温度、3000 ℉で）および最も高い引張強さがある。 放出させるタングス...
JINXING MATECH CO LTD
NO.57 KEXUEDADAOの道
タンタルのタングステンの合金の正方形のタングステンの放出させるターゲット熱い地殻均衡押すこと
タンタルのタングステンTaWの合金正方形ターゲット カスタム化の指定 準備プロセス:熱い地殻均衡押すこと、正常な温度の焼結、粉の金の処置、等目標資料の形態:平らなターゲット、複数のアーク ターゲット、ステップ ターゲット、特別型ターゲット 適用装備品:マグネトロンの放出させる装置、イオン放...
Luoyang Forged Tungsten-Molybdenum Material Co., Ltd.
第102号ビル33号 河南省ロヤン市イビン地区 ゾンデ工業公園第2期
高い純度のタングステンの金属の合金のタングステンの放出させるターゲットGB/T19001は承認した
高品質の純度ウォルフスタン 販売対象製品 高温耐性 製品説明 高品質のウルフスタン 販売対象製品 属性 目標重量:≤200kg/pc,純度:≥99.95%. スプッターリングは,新しいタイプの物理蒸気堆積 (PVD) 方法...
Luoyang Forged Tungsten-Molybdenum Material Co., Ltd.
第102号ビル33号 河南省ロヤン市イビン地区 ゾンデ工業公園第2期
を提出してください “tungsten sputtering target”
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