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二酸化炭素レーザーの印システムのための二重要素 F のΘのスキャン レンズ

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二酸化炭素レーザーの印システムのための二重要素 F のΘのスキャン レンズ

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起源の場所 :北京、中国
モデル番号 :SL-266-70-100
印区域 :70*70mm
波長 :266nm
レーザー :YAG/緑
最小注文数量 :1 セット
パッケージの詳細 :カートン
受渡し時間 :1 日
支払条件 :T / Tのウェスタンユニオン
供給の能力 :1000 セット/月
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266nmレーザーのf Θレンズ/レーザーの光学レンズ/焦点レンズ/視野レンズ

 

速い細部:

 

レーザーのf Θレンズはレーザーの印およびレーザーの彫版の印の頭部(レーザー スキャナ)を使用に使用することができる。

 

 

記述:

 

直径の許容+0.0、-0.13mm
厚さの許容±0.25mm
近軸の焦点距離±2%
Centration 3つのアーク分
明確な開き>>80%
1 1"あたり表面図λ/2 @632.8nm
表面質40-20の傷および発掘
表面@10.6umごとのAR/ARのコーティングR<0.5%

 

 

適用:

 

  • 彫版
  • 急速なプロトタイピング
  • 穴によるあくサーキット ボード
  • 布の切断
  • ペーパーの切断

 

 

指定:

 

最先端のレーザーの機械類のほとんどでは組み込まれ、あき印が付いていることのようなさまざまな適用を実現するために、レーザーの光学はシステムに溶接し、さいの目に切り、等を刻む切断けがきする。

X-Y検流計の走査器およびビーム エクスパンダーと共にF Θのスキャン レンズがシステムをスキャンする2つの次元を形作るのに使用されている。スキャン レンズは全体のスキャン分野上のミクロンのスケールのdiffraction-limited点サイズを平らな分野のイメージに与えるために最大限に活用される。イメージ分野の高さはスキャン角度にほとんど正比例している。通常、直線性のf Θのゆがみはソフトウェア訂正なしで1%以下最低のゆがみを保障するために保たれる。高いtransmissive ARのコーティングはレンズの要素の表面に最低の電源切れを保障し、それ故に効率を増加するために塗られる。スキャン レンズはレーザー機械にレンズの取付けを促進するために通る産業基準のM85x1台紙によって設計されている。別の標準的な台紙の糸を収容して、台紙のアダプターは転換の容易さのために利用できる。私達のプロダクトのほとんどは迎合的な特に明記しない限りRoHSである。

開き停止は二軸のスキャン システムの場合にはX-Yミラーの中心点で置かれる

 

 

他のプロダクト:

 

二酸化炭素レーザーの印システムのための二重要素 F のΘのスキャン レンズ

 

比較優位:

 

  • 世界の最も良い光学材料
  • 性能を最大限に活用する特別な収容の設計
  • 高いtransmissive ARのコーティング
  •  
  • 最先端のレーザーの機械類のほとんどで使用される
  • 平らな分野のイメージを提供しなさい
  •  
  • 1つから5つの光学要素を特色にする設計
  • 任意保護窓
  • 低損失ARのコーティング
  • 精密光学要素
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