拭かれたフィルムの蒸留装置1Lの空気敏感な真空CBD急に
拭かれたフィルムの蒸留の記述
特別な蒸留装置として、拭かれたフィルムの蒸留装置はだけでなく、混合物の部品の異なった沸点を利用すること、異なった物質の分子運動の平均自由行程の相違に主に依存によって1つのより多くの部品を浄化する目的を達成できる。
働き主義
1. 分子は液体段階の主体から蒸発の表面に拡散する:通常、液体段階の拡散速度は拭かれたフィルムの蒸留装置率を制御する主要な要因である。従って、液体層の厚さを減らし、流れを高めなさい。
2. 分子は液体層の表面で自由に蒸発する:温度の増加を用いる蒸発速度の増加、しかし分離率は時々温度の増加と減る。それ故に、経済的で、適度な蒸留の温度は処理された材料の熱安定性の前提で選ばれるべきである。
3. 分子は蒸発の表面から凝縮の表面に飛ぶ:このプロセスでは、蒸気の分子は互いにまたは2つの表面の間に残るガスの分子と衝突するかもしれない。蒸気の分子は空気分子より大いに重く、殆んどに同じ動きの方向がある、従って自身の衝突に飛行方向および蒸発速度の少し影響がある。残りのガスの分子は2つの表面間の無秩序の熱動きの状態にある、従って残りのガスの分子の数は飛行方向および蒸発速度に影響を及ぼす主要な要因である。
4. 分子は凝縮の表面で凝縮する:熱いのあると冷たい側面（一般に70~100℃）の十分な温度の違いが限り凝縮のステップが直ちに完了することができることが考慮されるおよび凝縮の表面の形態は適度、滑らかである。従って適度なコンデンサーの形態を選ぶことはかなり必要である。
技術的な変数
| 項目 | 有効な蒸発区域（mの²） | 凝縮区域（mの²） | 内径（mm）蒸化器 | 一定した圧力漏斗の容積（L） | 渡す容量（KG/H）を | モーター力（W） | 最高。回転式速度（RPM） |
| LMD-60 | 0.05 | 0.1 | 60 | 0.5 | 0.1-2.0 | 120 | 450 |
| LMD-80 | 0.1 | 0.15 | 80 | 1 | 0.3-4.0 | 120 | 450 |
| LMD-100 | 0.15 | 0.2 | 100 | 1 | 0.5-5.0 | 120 | 450 |
| LMD-150 | 0.25 | 0.4 | 150 | 2 | 1.0-8.0 | 120 | 450 |
| LMD-200 | 0.35 | 0.5 | 190 | 2 | 1.5-10.0 | 200 | 300 |
| LMD-300 | 0.5 | 0.65 | 220 | 5 | 2.0-15.0 | 200 | 300
|
構造の紹介
1. 供給の鍋
2.磁気に連結にドライブかき混ぜること
3. Jacketed蒸化器（中コンデンサーと）
4.コンデンサー
5.循環のヒーター（jacketed蒸化器を使用）
6.暖房および冷却のサーキュレータ（内部コンデンサーを使用）
7.制御システム（ショーの真空の程度、制御
表示2.rotary速度）
8.びん（低沸点ポイント）を受け取る留出物
8.びん（高沸点ポイント）を受け取る残余
10.回転式ベーンの真空ポンプ
11.拡散ポンプ
包み、出荷
