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3 年
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HTCC MLCC アルミナイトライド基板 脱水高真空炉
この装置は,アルミニウムナイトリド陶磁基板産業のために私たちの会社によって特別に開発された高温真空脱脂とシンタリング統合炉です.それは二層水冷却真空シェル構造を持ち,グラフィット多温区独立温度制御の加熱を採用ガスには複数のチャネルの水平流体設計構造があり,脱脂と脱脂効果を向上させることができます.アルミナイトライド基質の生産のためのシンタリングプロセスのための最初の選択です.
| 部屋の大きさ |
900×500×500mm
1500×500×500mm
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| 設計温度 | 2000°C |
| 最大温度 |
温度は1850°C
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| 暖房 | 石墨棒 |
| 制御精度 | ±1°C |
| 温度制御方法 | PIDの自動調整 |
| 最大出力 | サイズによって |
| 換気装置の種類 | 窒素やアルゴンなどの惰性ガス |
| 鍵のドア構造 | 電気ドアロック構造 |
| 制御システム | タッチスクリーン+完全自動PLC制御システム |
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