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ケイ素(Si)は約6µmにNIR （1µm）で使用のために利用できる最も堅い鉱物および光学材料の1つです。光学質のケイ素は通常（5伝達waveband内の吸収バンドを防ぐためにから40オームcm）添加されます。ケイ素にゲルマニウムより低いr.i.があり、より少なく重い光学設計のために作る低密度があります。
ケイ素は3から5µm （MWIR）のwavebandの窓と光フィルタのための基質として使用にとって理想的です。このwaveband （3に5µm）は狙撃銃および乳鉢の部分のような銃からの砲口炎のような700Kの完全放射体温度で、射出する源の検出のために重要です。その伝達は伝達を改良するように増透膜は要求されることを1から6µmの内のそして意味する50µmの上の約50%です。
ケイ素から、か他の適した材料は製造された、MWIRの光学部品狙撃銃が砲口炎を、例えば検出、できる単位を造るのに使用することができます。狙撃兵の検出は大きい重要性をもちます、例えば、アフガニスタンは狙撃兵に、同様に多くの軍の生命失われています。狙撃銃からの銃のフラッシュに出る熱いガスからの明瞭な分光分布があります。これらのガスは二酸化炭素、N2およびH2Oとともに、3から5µmバンドの明瞭な放出を作り出す例えば、COおよびH2です。
ケイ素にそれにレーザー ミラーのための理想をする高い熱容量があります。
ケイ素から、製造されたMWIRの光学部品は例えば設計指定に合うことを保障するためにテストされる必要があります。MWIRの干渉計が表面によってが必須からあるフリンジの数の点では表面質を定めるのに使用されています。干渉計は相違の相関的で平らなか球形の表面を測定できます。付加的な一点に集中するか、または分岐光学は質問のビームが凸および凹面の表面のための事件道に沿ってレトロ反映されることを保障するように要求されます。表面の正確さを定めるのにMWIRの干渉計が使用されていると同時にそして部品は表面のための必要とされるそれより高い指定に製造されなければなりません。これらの基準面はイギリスのNPLのような国民の標準にたどることができなければ、なりません。ケイ素が使用されるある典型的な適用はMWIR銃のフラッシュ検出、イメージ投射システムおよびMWIRの干渉計です。
| 材料 | 単結晶のゲルマニウム |
| ARのコーティングの範囲 | 3-5um |
| 反射率 ARのコーティングの範囲@ 0° AOI | Ravg < 1.5%、3-5um |
| 伝達 ARのコーティングの範囲@ 0° AOI | Tavg > 97%、3-5um |
| 直径の許容 | +0.0/-0.1 mm |
| 厚さの許容 | ±0.1 mm |
| 平行 | 3つのアーク分 |
| 表面質 | 60-40傷発掘 |
| 表面の平坦 （Planoの側面） | 633nmのλ/2 |
| 表面の不規則性 （谷へのピーク） | 633nmのλ/2 |
| 明確な開き | >Ø10.16 mm （Ø1/2」レンズ） >Ø20.32 mm （Ø1」レンズ） |
| 設計波長 | 10.6のμm |
| 化学式 | Si |
| 分子量 | 28.09 |
| 晶族 | 立方 |
| 格子定数、Å | 5.43 |
| 密度、293 Kのg/cm3 | 2.329 |
| 9.37 x 109のHzのための比誘電率 | 13 |
| 融点、K | 1690 |
| 熱伝導性、と（m K） 125K 313K 400K | 598.6 163 105.1 |
| 熱拡張、1/K 75K 293K 1400K | -0.5 x 10-6 2.6 x 10-6 4.6 x 10-6 |
| 比熱、cal/（K） g 298K 1800K | 0.18 0.253 |
| Debyeの温度、K | 640 |
| BandgapのeV | 1.1 |
| 水の容解性 | どれも |
| Knoopの硬度、kg/mm2 | 1100 |
| Mohsの硬度 | 7 |
| ヤングの係数、GPa | 130.91 |
| せん断の係数、GPa | 79.92 |
| バルク係数、GPa | 101.97 |
| ポアソンの比率 | 0.28 |
