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バキューム蒸気堆積炉
真空蒸気堆積炉 CVD炉 (SiC BN) 真空炉 化学蒸気堆積炉
主要な特徴:
蒸気堆積炉の使用:この化学蒸気堆積グラフィティゼーション統合炉は,UNDドロカーボンガス (C3H8などの複合材料の化学蒸気堆積のために使用することができます.,CVD,C/C複合材料のCVI処理,SiC複合材料,グラフィット部品の表面炭化処理,グラフェンの生産など.
蒸気堆積炉の用途:
この化学蒸気堆積グラフィティゼーション統合炉は,炭素源としてUNDドロカーボンガス (C3H8など) を含む複合材料の化学蒸気堆積に使用できます.CVD などC/C複合材料のCVI処理,SiC複合材料,グラフィット部品の表面炭化処理,グラフェンの生産.
蒸気堆積炉の特徴:
多機能高温設計により,化学蒸気堆積とグラフィティゼーション処理を同時に達成できます.
動作温度は2600まで高く,安定して長期間にわたって信頼性を持って動作できます.
温度計と赤外線温度計を組み合わせた温度計の自動変換システムは,温度範囲全体を表示し制御することができます.
主電源装置としてIGBTを使用したインダクション加熱周波数変換制御システムにより,機器は省エネと電力削減が可能になります.小さなハーモニックコンポーネントで,外部の機器に干渉しない.
入口ガスと出口ガスの精密な流量表示と制御は製品の安定性を保証します.
特殊構造の堆積室が使用され,密封効果が良し,汚染防止能力が強い
多チャンネル堆積ガス経路が用いられ,流れ場は均一で,堆積死角はなく,堆積効果は良好である.
特殊フィルタリングシステムは,炭素堆積過程で生成される油田,固体塵,有機ガスなどを効果的に処理することができる.
蒸気堆積炉の技術パラメータ:
