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半導体製造工程用純水給湯器
モデル |
PWH-24i |
PWH-48i |
PWH-72i |
PWH-96i |
PWH-144i |
加熱方法 |
近赤外線による輻射加熱 |
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ヒーターのワット数 |
24kW |
48kW |
72kW |
96kW |
144kW |
標準流量(e at55°C) |
6l/分 |
12l/分 |
18リットル/分 |
24リットル/分 |
36l/分 |
最小加熱流量 |
2l/分 |
5l/分 |
10l/分 |
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温度設定範囲 |
25~85℃ |
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温調精度 |
±1℃ ※1 |
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流量計表示範囲 |
0~10l/分 |
0~50l/min(温度制御精度の保証範囲ではありません) |
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許容純水圧力 |
0.4MP(リリーフ圧:0.35MPa) |
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ヒータ |
ハロゲンランプ。水に直接触れない間接加熱 |
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加熱容器材料 |
高純度透明石英 |
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配管接液材質 |
フッ素樹脂 |
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安全機能 |
流量異常、過熱、液なし、液漏れセンサ断線、ランプ断線 電源OFF、警報、異常表示または異常検出時の信号出力 |
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外部通信機能 |
RS-232C/RS-48(5オプション)※2 |
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外部入出力機能 |
入力8点/出力14点信号(仕様により異なります) |
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全体寸法(smm)※3 |
W340×D850×H1384 |
W340×D850×H1384 |
W340×D850×H1584 |
W340×D850×H1986 |
W1050×D700×H2004 |
重さ |
約。140kg |
約。150kg |
約。160kg |
約。210kg |
約。410kg |
所要電力(t 50/60Hz) |
AC200/208V 69/67A |
AC200/208V 139/133A |
AC200/208V 208/200A |
AC200/208V 277/266A |
AC200/208V 416/400A |
シリコンウエハーや液晶ディスプレイのガラス基板のリンスなどのポイントオブユースに最適な超純水用の給湯システムです。
純水加熱装置は、半導体製造時のシリコンウエハーや液晶製造時のガラス基板の洗浄に使用する純水を加熱する装置です。ハロゲン ランプは、超純水の効率的で汚染物質のない加熱を保証するために、透明な二重壁の高純度石英ガラス管に収容されています。スリムでコンパクトな設計により、使用場所に設置するためのフットポイントが最小限に抑えられます。
●特徴
1. きれいにする
水が流れる加熱容器とすべての配管パイプは、それぞれ高純度の石英ガラスとフッ素樹脂でできています。
2.コンパクト
スリムでコンパクトなユニットは、使用場所での設置に最小限の設置面積しか必要としません。
3.優れた温度管理
ハロゲンランプのハイパワーで、水量の変化に合わせて素早く昇温・調整。
4.高効率
95% 以上の効率。
5. 安全性
過熱、過熱、過熱、漏水などの異常時は、表示と警報音で最適な運転安全を確保します。
●アプリケーション
1. シリコンウェーハや液晶ディスプレイのガラス基板のリンスのための超純水の加熱。
2.洗浄用フロンの代わりに純水を加熱。