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半導体産業で使用される、EDI および研磨混合床を備えた 2T 超純水逆浸透装置
I. 概要
EDI および研磨混合床を備えた 2T/h 超純水逆浸透システムは、半導体、電子機器、精密製造業界の厳しい水質要件を満たすように設計されています。
前処理、RO、EDI、および混合床研磨技術を統合し、最大 18.2 MΩ・cm の抵抗率を持つ超純水の連続生産を保証します。このシステムはコンパクトで、高度に自動化されており、安定しているため、重要な産業用途に最適です。
II. 主な特徴
超純水の連続生産（最大 2,000 L/h）。
超高純度を実現する二段逆浸透 + EDI + 混合床研磨。
導電率、抵抗率、TOC のオンライン監視を備えた自動 PLC 制御。
設置とメンテナンスが容易なモジュール式スキッドマウント設計。
環境に優しい – EDI に酸/アルカリ再生は不要。
III. 技術パラメータ
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項目 |
仕様 |
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モデル |
2T/h 超純水 RO システム (EDI & MB 付き) |
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流量 |
2.0 m³/h (2000 L/h) |
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原水 |
水道水 / 軟水 |
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供給水の導電率 |
≤ 500 μS/cm |
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RO 回収率 |
60～70% |
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RO 脱塩率 |
≥ 98% |
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EDI 製品水の抵抗率 |
15～18 MΩ・cm |
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最終研磨水の抵抗率 |
最大 18.2 MΩ・cm |
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TOC（全有機炭素） |
≤ 10 ppb |
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バクテリア / 粒子 |
< 1 CFU/mL; < 1 粒子/mL |
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制御システム |
PLC + タッチスクリーン (Siemens / Schneider オプション) |
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フレーム材質 |
ステンレス鋼 304/316L |
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電源 |
380V、50Hz（カスタマイズ可能） |
IV. フローチャート
原水タンク → 原水ポンプ → マルチメディアフィルター（石英砂）→ 活性炭フィルター → 軟水器（オプション、原水硬度が高い場合）→ カートリッジフィルター（5μm PP）→ 高圧ポンプ → 逆浸透（第 1 段階）→ 逆浸透（第 2 段階）→ EDI（電気脱イオンモジュール）→ 研磨混合床（イオン交換樹脂）→ UV 殺菌器 + 精密フィルター → 超純水貯水タンク → 分配ポンプ + ループ配管 → 使用地点（半導体製造ライン）
以下の問題を明確にすることで、お客様に最適な機器を決定できます。
水質の問題
例 1：沈殿物が基準を超える / スケール / 濁った水 / 微生物が基準を超える / 重金属が基準を超える / マネーユーが基準を超えるなど。
水質基準
例 1：軟水 / 純水 / 超純水 / 鉄およびマンガンの除去 / 沈殿物の除去 / 殺菌など。
1日の水消費量
例 1：集中水消費期間 / 水消費時間 / ピーク最大水消費量 / 1時間あたりの平均水消費量があるかどうか
結論の例
1時間あたり5トンの軟水設備。
1時間あたり3トンの逆浸透水浄化設備
上記の質問に明確に答えられない場合は？
1. 1日の水消費量：水のサンプルをボトルで送ってください。
2. 水質基準：お客様の業界をお知らせください。
3. 水消費量：水消費量の計算をお手伝いします。
