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自動30W二酸化炭素プラスチックおよび宝石類のための光学レーザーの印機械
技術的な変数
| レーザー | 金属RF C02レーザー機械 |
| 力 | 30W |
| レーザーの波長 | 10.6um |
| 光学質M2 | <1.2 |
| 印区域 | 110*110mm （他の範囲は任意です） |
| 速度を切り分けて下さい | ≤7000mm/s |
| 最低特性 | 0.5mm |
| 最低の輝線幅 | 0.1mm |
| 繰り返された正確さ | ±0.01 |
| 電源 | 220V/50Hz |
| オペレーティング システム | Windowsのセリウム6.0 |
| 制御インタフェース | 標準的なUSB |
| サポート印の内容 | 共通のグラフィック、可変的なテキスト、日付、吹流し、バー コード、qrコード、等 |
| サポート壷 | 二重線単一行ドット マトリクス |
| ファイル形式 | サポート共通のベクトル ファイル形式（例えば:dxf、pltの点フォーマット） |
| 印様式 | サポート静的な印、飛行印 |
二酸化炭素レーザーの印機械は非金属材料に印を付けるために頻繁に使用されます。
薬剤包装、プラスチック包む、食品包装、飲料織物、革、木、手仕事、電子部品、コミュニケーション、closckガラス、印刷および他の企業で広く利用されたタケ プロダクト、木、ペーパー、ABS、ポリ塩化ビニール、エポキシ、樹脂、アクリルの革、ガラス、architechtural製陶術、ゴム、etc.areのような。
2. 装置構成および構成の記述
| 構成 | 部分名 | 簡潔な説明 |
| レーザー | 金属RF C02レーザー機械 | |
| 示す指摘システム | 作り付けの輪郭、サイズ、方向および位置徴候 | |
| レンズ系 | 波長、完全なシリーズ レンズ セット | |
| 冷却装置 | 空冷 | |
| レーザーの振動レンズ | 専門統合された光学土台の設計 | |
| 供給を制御して下さい | 220V普遍的な力の統合 | |
| 専門レーザーの制御カード | ひるみの接触印ソフトウェア | |
| コンピュータおよび印ソフトウェア | 10インチのタッチ画面システム | |
| 特別な立場 | 持ち上がるプラットホーム |
