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高精度ポータブルガス分析機 NH3 H2S HCL HF CO PPM 範囲 高解像度

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高精度ポータブルガス分析機 NH3 H2S HCL HF CO PPM 範囲 高解像度

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モデル番号 :ESE-レーザー-100P
最低注文量 :1 ユニット
支払条件 :T/T
名前 :高精度ポータブルガス分析機
測定されたガス :NH3/HCL/HF
決議 :0.01mg/m3
サンプルガス温度 :≤600℃
流れの見本抽出 :2-3L/min
ウォームアップ タイム :60mins
繰り返し可能性 :≤1%FS
範囲 :0~100ppm/500ppm/1000ppm
生産量 :RS232/USBポート
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ポータブル TDLAS ガス分析機 NH3 H2S HCL HF CO Ppm 範囲 高精度 高解像度

 

申請について プロセスの制御:SCR,燃焼および燃焼プロセス

排出量監視発電機開発 廃棄物焚化装置

化学工学:生産制御と監視 漏れ検出,冷却,有毒ガス

◎その他:環境の比較と承認,緊急事態の検出,計測器の校正,自己検査,実験室のガス検出と複数のレベルの環境監視ステーションの分析第三者試験機関固定汚染源やガスの汚染物質,石炭火力発電所,ガス発電所,水泥工場,鉄鋼工場など

 

楽器の特徴

このポータブルレーザーガス分析機には,以下の主要な特徴があります.

ほら全温高温熱抽出方法が採用され,現場での作業条件に制限されず,広く適用され,使用と保守が簡単です.

ほらTDLAS高解像度光譜技術を使用して,他のガスからの干渉なしに測定することができ,塵や背景ガスの影響を効果的に軽減できます.この特徴は,他の分析方法と比較して明らかな利点があります..

ほらレーザー光学スペクトル分析は,迅速な応答と高い感度で優れています.実用的な応用では解像度は0.1ppmに達します.工業機器用ガス部品の検出の精度要求を満たす.

 

性能パラメータ
ガス 範囲 決議 繰り返し可能性 線形性 応答時間 ドリフト
HCL 0〜100 mg/m3 0.1 mg/m3 ≤1%FS ≤1%FS ≤15S ≤2%FS
HF 0〜100 mg/m3 0.1 mg/m3 ≤1%FS ≤1%FS ≤15S ≤2%FS
NH3 0〜100ppm 0.1ppm ≤1%FS ≤1%FS ≤15S ≤2%FS
電気パラメータ
温める時間 60分 デジタル出力 RS232 データ保存 USB2.0 インターフェイスを設定する
電源

AC200-240V/

47〜63Hz

パワー <0.8kW    
環境パラメータ
標本ガス湿度 0-99% R.H 試料ガス温度 ≤600°C 試料ガス圧 大気圧±5kPa
貯蔵湿度 0-99% R.H 環境温度 -10~55°C 環境圧力 70kPaから120kPa
サンプリングフロー 2〜3L/分 保護レベル IP44    
メカニカルパラメータ
解析器の寸法 210 (W) *460 (L) *340 (H) mm 体重 18kg
箱の寸法 500W*600L*150Hmm 体重 7.5kg
サンプルガス入口関節の仕様 Ø6 ステンレス鋼のフェルル接合体 ガス出口コネクタのサンプル仕様 Ø6PVDFコネクタ

 

 

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