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プロセスH2分析機 NDIRセンサー O2 CH4 CO CO2 メタンガス分析機 水素ガス分析機
プロセスH2分析機は,工業プロセスにおける水素 (H2) ガス濃度を測定するために特別に設計された機器である.水素は,様々な産業で広く使用されています.化学製造を含むプロセス制御,安全性,品質保証のためにH2レベルを監視することが重要です.
プロセスH2分析機に関するいくつかの重要なポイントは以下のとおりです.
1測定原理:プロセスH2分析機は,水素濃度を測定するために様々な検出技術を使用する.一般的な方法には,熱伝導性の検出,電気化学センサーが含まれます.,熱伝導性分析装置は,水素の存在時のガス混合物の熱伝導性の変化を測定する.電気化学センサーはH2濃度に比例する電気信号を生成しますNDIR解析機は,水素分子による赤外線光の吸収を測定する.各方法は正確でリアルタイム測定を提供します.
2特性: プロセスH2分析機は,産業環境における継続的な監視のために設計され,プロセス制御に適した機能を提供します.これらの機能には以下が含まれます.
- 頑丈な構造: プロセス分析機は,通常,厳しい産業環境に耐えるように作られ,耐久性のあるハウジングと温度,湿度,腐食性のある状態.
- リモートモニタリングと制御:一部の分析機は制御システムまたはネットワークに統合され,H2濃度をリモートモニタリングと制御することができます.これはリアルタイムデータにアクセスし,H2濃度の変化に対する積極的な対応を容易にする..
- データログとレポート: プロセスアナリストは,測定データを時間の経過とともに保存するためのデータログ機能がしばしば内蔵されています.彼らは報告を作成し,コンプライアンス目的のためにデータを提供することができます.プロセス最適化歴史的分析
- 警報システム:プロセス分析器には,H2濃度が事前に定義された限界値を超えると起動するように設定できる設定可能な警報装置が含まれます.警報装置は,潜在的な安全リスクに対して操作者を警告します.プロセス問題,または望ましい動作条件からの偏差.
- カリブレーションと保守: 正確で信頼性の高い測定を保証するために,定期的なカリブレーションと保守が必要です.カリブレーションと保守の頻度は,特定の分析器と製造者の推奨事項に依存する..
3測定範囲と精度:プロセスH2分析機は,工業用アプリケーションに合わせた特定の測定範囲と精度を持っています.測定範囲はモデルによって異なりますが,低パーツ/百万 (ppm) レベルから高容量パーセントまでをカバーできます.測定の精度は,製造者によって指定され,モデルによって異なります.
4安全性:水素は燃やす気体であり,H2の高濃度で作業するには適切な安全対策が必要です.十分な換気,ガス漏れ検出システム,水素ガスを処理する際に安全プロトコルの遵守が重要です.
特定のプロセスのH2分析機モデルは,追加の機能と仕様を持つ可能性があることに注意することが重要です.したがって,特定のデバイスに関する詳細な情報については,製造者のドキュメントや使用説明書を参照することをお勧めします..
プロセスガス分析機は,プロセス安全と品質管理における重要なツールである.プロセスガスの化学組成を監視し最適化するのに役立ちます.ガス分析機市場は種類別に分割されていますテクノロジー,応用,地理
高安定性赤外線検出器とTDL技術で CO,CO2とCH4を同時に測定しますこれらのガスは,合成ガスやガス化大気などの挑戦的なアプリケーションに適していますさらに,解析機は,H2の補償熱伝導性セルを使用することができる.電気化学O2センサーは,サンプルガス流の酸素の百分比レベルも測定することができる.
| 紫外線 NDIR検出器 | |||||
| ガス | 最低範囲 | 最大範囲 | LR 解像度 | HR 決議 | 精度 FS |
| CO | 0~5% | 0〜100% | 0,001 % | 0,01 % | ≤ ±2% |
| CO2 | 0~5% | 0〜100% | 0,001 % | 0,01 % | ≤ ±2% |
| CH4 | 0~5% | 0〜100% | 0,001 % | 0,01 % | ≤ ±2% |
| CnHm | 0~10% | 0,001 % | 0,01 % | ≤ ±2% | |
| 熱伝導性検出器 (TCD) | |||||
| H2 | 0~20% | 0〜100% | 0,01% | 0,01% | ≤ ± 3% |
| 電気化学検出器 (ECD) | |||||
| O2 | 0~25% | 0,01 % | 0,01 % | ≤ ± 3% | |