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KIFFM - EA 流入スペクトロフォトメトリック分析機の技術パラメータ
製品紹介
KIFFM - EA 流入スペクトロフォトメトリック分析機は,スペクトロフォトメトリック分析のために特別に設計された完全自動分析と検出システムです.高精度な二重ペリスタルティックポンプを統合します. 数値制御された,高速制御の流量注入サンプルシステムです.強力な光学分析データ収集システムと 化学分析 運動スペクトラム分析ソフトウェア流入光学分析のために様々なスペクトロフォトメーターと組み合わせることができます.
応用分野
テクニカル特徴
高精度パリスタルティックポンプ 幅広くデジタル速度制御システム
高精度 перистальティックポンプ 幅広くデジタル速度調節システム 速度調節範囲 0 - 99 レベル
最大10チャネルパイプライン注入 (5チャネル/ポンプ)
16 チャンネル自動/手動バルブ
高精度データ取得システム,メインコンピュータによって制御され,
オートマティック/マニュアルゼロ設定
1×, 2×, 4×, 8×, 16× 制御力を獲得する
フィルター切断 - 周波数調整: 10 - 100 Hz
サンプリング速度設定:1〜100T/S
外部信号入力インターフェース,他の機器からアナログ信号を受信できる,入力範囲0~5V
検出器: 1 722Nスペクトロフォトメーター
722N可視スペクトロフォトメーターは 低散光と高解像度で 単束光学経路構造を採用しています
器具は安定性と再現性が良い.
最先端のマイクロコンピュータ処理技術を使用することで,操作がより便利になり,テストがより迅速に完了できます.
0%Tと100%Tの自動校正などの制御機能を有する.
LEDデジタルディスプレイは,伝達量,吸収量,濃度などのパラメータを表示し,計器の読み解き精度を向上させることができます.
シリアルポートを備えた印刷出力は,実験データを印刷するために直接プリンターに接続できます.
波長範囲:325〜1000nm
波長精度 ≤ ±2 nm
波長重複性: 1nm
スペクトル帯域幅: 5nm
散乱光: < 0.1% ((T) (360 nm で NaNO2 で測定)
安定性:ダーク電流漂流: 0.2% (T) /3分;明るい電流漂流: 0.5% (T) /3分
REMEX 全中国語 - 言語データ分析システム
測定システムは,サンプラーパラメータの設定と制御,分析パラメータの設定と制御,化学反応動学的リアルタイムデータ取得を完了することができます.曲線を描くことも吸収量/強度測定を行うことができます. 繰り返し測定状態では,取標システムと同期して,累積的な重置と平均的な重置などの動力曲線試験を行うことができる..
測定したスペクトラムデータの測定と処理:測定したスペクトラムの任意の点の値を読み取ることができる.測定されたスペクトラムの任意の2つの点で波形のための有効領域を設定することができます測定したスペクトラムの異常点は"つずつまたは複数の点で除去できます.
